2008 年度研究成果報告書

ヒストン修飾を制御する分子によるがんの発生及び進展機構の解明

研究課題

研究課題/領域番号	19590417
研究種目	基盤研究(C)
配分区分	補助金
応募区分	一般
研究分野	実験病理学
研究機関	国立がんセンター(研究所及び東病院臨床開発センター)
研究代表者	藤井誠志国立がんセンター, 研究所及び東病院臨床開発センター (30314743)
研究分担者	落合淳志国立がんセンター, 研究所及び東病院臨床開発センター・・臨床腫瘍病理部, 部長
研究期間 (年度)	2007 – 2008
キーワード	ヒストン / メチル化
研究概要	多種多様ながんにおいて高発現しているヒストン修飾を制御する分子が、腫瘍抑制遺伝子などの細胞の恒常性を維持することのできる重要な遺伝子群の発現の抑制をもたらし、細胞の表現型を変化させることによって、がんの発生と進展を引き起こしていることを明らかにした。