シリコーンゴムあるいはポリエチレン基板に酸素クラスター・モノマー混合(O_2CM)イオンビームを種々の条件で照射し、その後、塩化カルシウム水溶液に浸漬した。このようにして得られた基板のアパタイト形成能をヒトの体液の1.5倍の無機イオン濃度を有する擬似体液中で評価した。O_2CMイオンビーム照射により、基板の親水性が著しく向上した。未照射基板はアパタイトを形成しなかったが、照射基板はアパタイトを形成した。このことは、O_2CMイオンビーム照射がシリコーン基板にアパタイト形成能を付与するのに有効であることを示している。
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