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2010 年度 実績報告書

強相関酸化物量子井戸構造のフェルミオロジー

研究課題

研究課題/領域番号 19684010
研究機関東京大学

研究代表者

組頭 広志  東京大学, 大学院・工学系研究科, 准教授 (00345092)

キーワード量子井戸 / 角度分解光電子分光 / 表面・界面物性 / 強相関電子系 / 強相関エレクトロニクス / 酸化物超構造 / 酸化物ヘテロ構造 / 酸化物薄膜
研究概要

本研究では、レーザー分子線エピタキシー法により原子レベルで構造を制御した「強相関酸化物量子井戸構造」を作製し、その電子状態を光電子分光法により直接決定することで、新規な低次元電子状態をデザインすることにある。そのため、本年度は、「強相関酸化物量子井戸」で発現する新規な2次元電子状態、特に伝導性酸化物を用いた金属量子井戸構造の創成、およびフェルミ準位近傍に存在するサブバンド分散(量子化準位)の直接観測にターゲットを絞って研究を行い、下記の成果を得た。
1.SrVO_3量子井戸構造の作製と量子化準位の観測
伝導性酸化物であるSrVO_3を用いた金属量子井戸構造を作製し、そのin-situ角度分解光電子分光を行った。その結果、明確な量子化準位の観測に成功した。これは、現時点で酸化物ヘテロ構造において金属量子井戸状態を創成・観測した初めての結果である。また、この量子化準位の膜厚依存性については、基本的にはこれまでの通常金属における量子井戸の概念で理解できることが明らかになった。しかしながら、電子相関の強い異方的なV 3d電子状態を反映した「軌道選択的量子化状態」や「サブバンドの異常有効質量増大」などの強相関金属量子井戸特有と思われる現象を観測した。
2.LaNiO_3超薄膜における電子状態の膜厚依存性
LaNiO_3(LNO)/LaAlO_3の超構造において高温超伝導体と類似した電子状態が出現することが理論的に予想されてから、精力的な研究が行われているLNO超薄膜について、その電子状態の膜厚依存性を測定した。その結果、理論予測とは異なり、LNO超薄膜は約3-5MLで金属から絶縁体に転移してしまうことが明らかになった。詳細な光電子スペクトルの解析から、この金属-絶縁体転移は表面・界面におけるバンド幅の減少により引き起こされていると結論づけた。

  • 研究成果

    (9件)

すべて 2010

すべて 雑誌論文 (6件) (うち査読あり 6件) 学会発表 (3件)

  • [雑誌論文] Dimensional-Crossover-Driven Metal-Insulator Transition in SrVO_3 Ultrathin Films2010

    • 著者名/発表者名
      K.Yoshimatsu, T.Okabe, H.Kumigashira, S.Okamato, S.Aizaki, A.Fujimori, M.Oshima
    • 雑誌名

      Phys.Rev.Lett.

      巻: 104 ページ: 147601[1-4]

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Termination layer dependence of Schottky barrier height foi La_<0.6>Sr_<0.4>MnO_3/Nb:SrTiO_3 heterojunctions2010

    • 著者名/発表者名
      M.Minohara, R.Yasuhara, H.Kumigashira, M.Oshima
    • 雑誌名

      Phys.Rev.B

      巻: 81 ページ: 235322[1-6]

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Interfacial chemical states of resistance-switching metal/Pr_<0.7>Ca_<0.3>MnO_3 interfaces2010

    • 著者名/発表者名
      R.Yasuhara, T.Yamamoto, I.Ohkubo, H.Kumigashira, M.Oshima
    • 雑誌名

      Appl.Phys.Lett.

      巻: 97 ページ: 132111[1-3]

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Transport properties and electronic states of anatase Ti_<1-X>W_xO_2 epitaxial thin film2010

    • 著者名/発表者名
      U.Takeuchi, A.Chikamatsu, T.Hitosugi, H.Kumigashira, M.Oshima, Y.Hirose, T.Shimada, T.Hasegawa
    • 雑誌名

      J.Appl.Phys.

      巻: 107 ページ: 023705[1-4]

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Carrier compensation by excess oxygen atoms in anatase Ti_<0.94>Nb_<0.06>O_<2+δ> epitaxial thin films2010

    • 著者名/発表者名
      H.Nogawa, T.Hitosugi, A.Chikamatsu, S.Nakao, Y.Hirose, T.Shimada, H.Kumigashira, M.Oshima, T.Hasegawa
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys.

      巻: 49 ページ: 041102[1-4]

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Chemical trend of Fermi-level shift in transition metal-doped TiO_2 films2010

    • 著者名/発表者名
      Y.Matsumoto, M.Katayama, T.Abe, T.Ohsawa, I.Ohkubo, H.Kumigashira, M.Oshima, H.Koinuma
    • 雑誌名

      J.Ceram.Soc.Jpn.

      巻: 118 ページ: 993-996

    • 査読あり
  • [学会発表] Direct observation of redox reactions in resistance random access memory2010

    • 著者名/発表者名
      Hiroshi KUMIGASHIRA
    • 学会等名
      2010 International Technology Roadmap for Semiconductors, Memory Materials Workshop
    • 発表場所
      Epocal Tsukuba, Tsukuba, Japan
    • 年月日
      2010-11-30
  • [学会発表] Depth profiling for spin tunnelling junctions using hard-x-ray and soft-x-ray photoemission spectroscopy2010

    • 著者名/発表者名
      H.Kumigashira, M.Minohara, K.Horiba, E.Ikenaga, M.Oshima
    • 学会等名
      37th International conference on Vacuum Ultraviolet and X-ray Physics (VUVX2010)
    • 発表場所
      University of British Columbia, Canada
    • 年月日
      2010-07-13
  • [学会発表] In-situ photoemission studies on artificial oxide structures2010

    • 著者名/発表者名
      Hiroshi KUMIGASHIRA
    • 学会等名
      The 5th AOFSRR & The 22nd PAL User's Joint Work Shop
    • 発表場所
      POSCO International Center, Pohang, Korea
    • 年月日
      2010-07-08

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公開日: 2012-07-19  

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