研究課題
若手研究(A)
窒素分子(N2)を構成要素とする特異錯体ポリマー合成法を新たに開発するため,N2と金属錯体の反応性を検討し,それを基盤として対応する高分子を合成した.ビスピンサー型のイリジウムおよびロジウム錯体とN2との反応により得られたN2含有錯体ポリマーは,一般の溶媒に不溶であったが,赤外吸収スペクトルより生成物中にN2分子が導入されていることが確認された.
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