シリコン基板一体型多孔質層の応用-細胞操作への展開-

2009 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 19686014
• 研究種目: 若手研究(A)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 生産工学・加工学
• 研究機関: 東京理科大学
• 研究代表者: 早瀬 仁則 東京理科大学, 理工学部, 准教授 (70293058)
• 研究期間 (年度): 2007 – 2009
• キーワード: MEMS / 多孔質シリコン

研究概要

シリコン基板上に背面まで貫通した多孔質部を部分的に形成することにより、細胞等の微小物体の吸引固定を可能にした。細胞の培養液には、代謝による生成物等が含まれるため、多孔質部の目詰まりが生じやすいが、培養液が多孔質部を透過する際の圧力損失等を測定した結果、吸引固定が十分可能であることが予想され、実際に吸引固定を実証した。さらに、吸引固定後、吸引力を調整することにより、細胞破砕が可能であることを示した。

研究成果

• [雑誌論文] Formation of Porous Noble Metal Layer by Displacement Reactions with Porous Silicon (2008)
  • 著者名/発表者名: M. Hayase, T. Matsuzaka, J.G.A. Brito-Neto
  • 雑誌名: ECS Transactions 16(3) ページ: 231-235
• [雑誌論文] 貫通多孔質シリコン層を用いた微小物体吸引デバイスの開発 (2008)
  • 著者名/発表者名: 早瀬仁則, 加藤厚子, 内海敦
  • 雑誌名: 精密工学会誌 74(10) ページ: 1056-1061
  • 査読あり
• [雑誌論文] Porous Gold Structures Templated by Porous Silicon (2008)
  • 著者名/発表者名: J.G.A. Brito-Neto, K. Kondo, M. Hayase
  • 雑誌名: Journal of The Electrochemical Society 155(1) ページ: D78-D82
  • 査読あり
• [学会発表] Formation of Through-Chip Porous Noble MetalLayers on Silicon Substrates (2009)
  • 著者名/発表者名: T. Matsuzaka, J. Shimanuki, T. Ishiguro, M. Hayase
  • 学会等名: 216th Meeting of the Electrochemical Society
  • 発表場所: Austria
  • 年月日: 2009-11-06
• [学会発表] シリコン基板上への貫通した多孔質貴金属層の形成 (2009)
  • 著者名/発表者名: 松坂拓, 島貫純一, 早瀬仁則
  • 学会等名: 2009年度精密工学会秋季大会学術講演会
  • 発表場所: 神戸大学
  • 年月日: 2009-09-10
• [学会発表] Porous Silicon Based Microfluidic Device for Bio-applications (2008)
  • 著者名/発表者名: V.N. Tondare, N. Ozawa, M. Hayase
  • 学会等名: 2008年度精密工学会秋季大会学術講演会
  • 発表場所: 東北大学
  • 年月日: 2008-09-18
• [学会発表] A novel device for fixing small objects using through-pore porous silicon (2007)
  • 著者名/発表者名: K. Kato, A. Uchiumi, M. Hayase
  • 学会等名: TRANSDUCES 2007
  • 発表場所: France
  • 年月日: 2007-06-14
• [図書] 細胞分離・操作技術の最前線 (2008)
  • 著者名/発表者名: 早瀬仁則
  • 総ページ数: 252-263
  • 出版者: シーエムシー出版