研究課題
若手研究(B)
紫外線耐性に関わる遺伝子の単離を目的として新奇のスクリーニング法を開発し、シロイヌナズナのFOXラインより紫外線吸収色素が野生型よりも高蓄積する変異体の単離に成功した。幾つかの解析の結果から変異体の紫外線耐性の原因は、紫外線を吸収する二次代謝産物の蓄積に関わる合成酵素遺伝子の転写量が、野生型よりも多い事であった。この事は、変異体の表現型の原因遺伝子が、紫外線照射による色素量の増加を転写レベルで制御し、紫外線に対する防御応答の一端を担っている因子である事を示差している。
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Plant Cell Physiology 50(7)
ページ: 1215-1231
Plant Physiology 147(4)
ページ: 1924-35
Annual review of Plant Biology (in press)
Methods in Molecular Biology (in press)
Plant Reverse Genetics (in press)