| 研究概要 |
ナノインプリントプロセスにもとづくポリマースルーホールメンブレンの作製に関し検討を行い, 以下の成果を得た.
1. ナノインプリントプロセスに用いるモールドは, 通常, 電子ビームリソグラフィーを始めとする各種リソグラフィー技術により作製される. これらのプロセスでは, 曲面状にナノパターンの形成を行うことは難しいことから, 曲率を有する表面にナノパターンが形成されたモールドを形成することは困難である. アルミニウム電極を陽極酸化することにより電極表面に形成される陽極酸化ポーラスアルミナは, アルミニウム電極の形状を問わず形成することが可能である. そのため, 曲率を有するアルミニウム表面に形成した陽極酸化ポーラスアルミナをナノインプリント用モールドとして適用することにより, 既存のモールドを用いたナノインプリント法では作製困難な, 曲面上にナノパターンの形成が可能であることが確認された.
2. 従来より検討を進めてきたポリマー材料のほか, 無機材料への適用に関し検討を進めた. これにより, 陽極酸化ポーラスアルミナまたはそれを鋳型として作製したネガ型モールドを用いたナノインプリントプロセスにより, 無機材料からなるナノ規則表面の形成が可能であることを確認した.
3. 陽極酸化ポーラスアルミナを用いたナノインプリントプロセスにより形成したシリカナノピラーアレーがフォトニック結晶特性を示すことが確認され, 本手法が無機材料からなるフォトニック結晶を作製するための手法として有用であることが確認された.
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