研究課題
若手研究(B)
本研究では、単一のマスクパターンからアライメントレスで複雑な3次元構造を作製するフォトリソグラフィ法を提案するとともに、提案するプロセスの具体的な応用例として3次元多層流を用いた高速マイクロミキサの試作・評価を行った。提案するフォトリソグラフィ技術は、遮光用のメタル層がパターニングされたガラス基板に紫外線硬化性樹脂を直接塗布し、裏面から紫外線を傾斜露光することによって、単一のマスクパターンから3次元的な構造を作製することができる。
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すべて 雑誌論文 (4件) (うち査読あり 2件) 学会発表 (10件) 備考 (1件) 産業財産権 (1件)
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http://www.eng.kagawa-u.ac.jp/~suzuki/