研究課題
若手研究(B)
スパッタプロセスは, 非常に幅広い薄膜プロセスに用いられている. 本研究では, 高機能薄膜を高品質に形成するために, スパッタプラズマ中の数種類の金属原子密度を同時にモニタリングする技術の開発を目的とした. 具体的には, 金属原子密度測定用の吸収分光用光源の開発し, 透明導電膜製膜スパッタプラズマ中のInとZn原子密度の同時モニタリングを行い, 金属原子の絶対密度計測に成功した.
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Appl. Phys. Lett. 90
ページ: 251502-1-25102-3
http://www.sys.wakayama-u.ac.jp/om/photonics/