ECRプラズマCVD法を用いた多孔性チタニア膜によるチタンインプラント表面改質

2008 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 19791422
• 研究種目: 若手研究(B)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 補綴理工系歯学
• 研究機関: 東北大学
• 研究代表者: 羽鳥 弘毅 東北大学, 大学院・歯学研究科, 助教 (40372320)
• 研究期間 (年度): 2007 – 2008
• キーワード: ECRプラズマCVD法 / チタンインプラント / 多孔性チタニア膜 / 表面改質 / インターフェイス / 骨誘導インプラント

研究概要

これまでに, 申請者は電子サイクロトロンプラズマ金属錯体析出法(ECRプラズマCVD法)を利用して純チタン表面上に多孔性チタニア膜を析出させることにより表面改質に従事してきた. 多孔性チタニア膜の成膜条件を変化させることにより, 多孔性チタニア膜の膜性状が変化することが確認された. また, 各種膜性状に応じて石灰可能・ぬれ性が異なることが確認された.