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2020 年度 実績報告書

アンモノサーマル法による高品質GaN基板成長

研究課題

研究課題/領域番号 19F19752
研究機関名古屋大学

研究代表者

天野 浩  名古屋大学, 未来材料・システム研究所, 教授 (60202694)

研究分担者 SCHIMMEL SASKIA  名古屋大学, 未来材料・システム研究所, 外国人特別研究員
研究期間 (年度) 2019-07-24 – 2021-03-31
キーワードGaN / Ammonothermal / Simulation
研究実績の概要

名古屋大学滞在中、シンメル氏はアンモノサーマル法による窒化ガリウムの成長とそのシミュレーションを実施した。窒化ガリウムは、カーボンニュートラル社会を実現するための次世代省エネシステムの構築において、従来のシリコントランジスタに代わる次世代半導体材料の最も有望な候補である。現在ハロゲン化物気相エピタキシー法で成長させた自立型基板が市販されているが、結晶欠陥密度が高く、結晶面の反りも大きいため、社会実装に向けて大きな課題がある。低欠陥密度と低反りの点で最も有望な基板は、アンモノサーマル法で成長させたGaN結晶である。アンモノサーマル法で一般的なのはアルカリ性鉱化剤を使用する方法であるが、極めて高い圧力が必要なことが問題である。一方、酸性鉱化剤の場合、成長圧力ははるかに低くなることが分かっている。シンメル氏は酸性鉱化剤を用いた窒化ガリウム結晶の成長に取り組んだ。特に成長速度を制御するために、成長システムの温度分布流体シミュレーションの確立を試みた。世界に例がなく、ユニークな取り組みである。その成果は二つの学術論文、「アンモノサーマル結晶成長中の流体の流れと温度場のシミュレーションの境界条件-オートクレーブ壁の温度分布の機械学習支援研究」、Crystals、11、254(2021)、および「GaNのアンモノサーマル結晶成長の数値シミュレーション;現状、課題、展望、結晶」11、356(2021)として結実した。アンモノサーマル法では高圧化で結晶成長が行われるために、温度分布や流体の流れをその場観察するのは、大型X線源や検出器などの極めて高価な特別設備が必要である。彼女の構築した温度シミュレーション手法は、アンモノサーマル法での成長制御性を高めるうえで基礎的で非常に貴重な成果と言える。

現在までの達成度 (段落)

令和2年度が最終年度であるため、記入しない。

今後の研究の推進方策

令和2年度が最終年度であるため、記入しない。

  • 研究成果

    (2件)

すべて 2021

すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件、 オープンアクセス 2件)

  • [雑誌論文] Boundary Conditions for Simulations of Fluid Flow and Temperature Field during Ammonothermal Crystal Growth?A Machine-Learning Assisted Study of Autoclave Wall Temperature Distribution2021

    • 著者名/発表者名
      Schimmel Saskia、Tomida Daisuke、Saito Makoto、Bao Quanxi、Ishiguro Toru、Honda Yoshio、Chichibu Shigefusa、Amano Hiroshi
    • 雑誌名

      Crystals

      巻: 11 ページ: 254~254

    • DOI

      10.3390/cryst11030254

    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Numerical Simulation of Ammonothermal Crystal Growth of GaN?Current State, Challenges, and Prospects2021

    • 著者名/発表者名
      Schimmel Saskia、Tomida Daisuke、Ishiguro Tohru、Honda Yoshio、Chichibu Shigefusa、Amano Hiroshi
    • 雑誌名

      Crystals

      巻: 11 ページ: 356~356

    • DOI

      10.3390/cryst11040356

    • 査読あり / オープンアクセス

URL: 

公開日: 2021-12-27  

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