| 研究課題/領域番号 |
19H02045
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 審査区分 |
小区分18020:加工学および生産工学関連
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| 研究機関 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
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研究代表者 |
倉島 優一 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 研究グループ長 (70408730)
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| 研究分担者 |
松前 貴司 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 主任研究員 (10807431)
柳町 真也 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 計量標準総合センター, 上級主任研究員 (70358216)
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| 研究期間 (年度) |
2019-04-01 – 2022-03-31
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| キーワード | MEMS / 気密封止 / 接合 / 量子干渉 / 脱ガス |
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| 研究成果の概要 |
封止後の脱ガスによる圧力変動が極力小さい気密封止接合技術を開発し、量子干渉効果に基づくCPT（コヒーレント・ポピュレーション・トラッピング）共鳴現象によりCsガスセルのキャビティ内部の圧力を評価した。その結果、Csを高気密で封止可能であることが分かった。共鳴周波数の変動要因については、圧力変動 (衝突シフト圧力依存)よりも、温度変動(衝突シフト温度依存)によるものが支配的である。このため高精度な恒温槽にキャビティを入れて測定することにより、さらに高精度なキャビティ中の圧力変動を評価可能であると考えられる。
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| 自由記述の分野 |
気密封止接合
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
キャビティの内部圧力を一定に担保できる気密封止接合技術及び量子干渉効果に基づくCPT共鳴現象を元にした封止性の評価は新原理や高性能なマイクロデバイスを実現する上で社会的意義があるだけでなく、封止接合のミクロのメカニズム解明や気密性の評価手法の追求は学術的意義があり、最終的には気体分子レベルでの気密性の評価につながると考えている。
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