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2021 年度 研究成果報告書

三方晶系サファイア基板上の立方晶系ダイヤモンドヘテロエピタキシャル成長の基礎研究

研究課題

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研究課題/領域番号 19H02616
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分一般
審査区分 小区分30010:結晶工学関連
研究機関佐賀大学

研究代表者

嘉数 誠  佐賀大学, 理工学部, 教授 (50393731)

研究分担者 高橋 和敏  佐賀大学, シンクロトロン光応用研究センター, 教授 (30332183)
大石 敏之  佐賀大学, 理工学部, 教授 (40393491)
研究期間 (年度) 2019-04-01 – 2022-03-31
キーワードダイヤモンド / ヘテロエピタキシャル成長 / パワー半導体
研究成果の概要

サファイア基板上のダイヤヘテロエピタキシャル成長を、MgO基板上と比較し、ダイヤ層の結晶構造と結晶成長過程を、X線回折や断面TEM観察を用いて明らかにした。
三方晶構造のサファイア基板結晶上にIrバッファ層を成長し、ダイヤをエピタキシャル成長する場合、結晶方位関係は、サファイア(11-20)[1-100]//Ir(001)[110]//ダイヤ(001)[110]であることを明らかにした。他方MgOの場合は、MgO(001)[110]//Ir(001)[110]//ダイヤ(001)[110]であった。サファイアの場合はIrは圧縮歪を受け、ダイヤではほぼ緩和するため、ダイヤの結晶品質が優れている。

自由記述の分野

結晶工学

研究成果の学術的意義や社会的意義

本研究で得られた知見により、これまで4ミリ角でしかなかったダイヤ結晶を、2インチ径まで大口径化できるようになった。さらに、その上に作製したダイヤモンドパワー半導体デバイスは、345MW/cm2の極めて高い出力電力を制御できることを示した。このダイヤモンドパワー半導体デバイスは、近い将来、電気自動車や電車などで使われ、従来よりも格段にエネルギー効率を上げることができる。

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公開日: 2023-01-30  

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