| 研究課題/領域番号 |
19H02619
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| 研究機関 | 慶應義塾大学 |
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研究代表者 |
Fons Paul 慶應義塾大学, 理工学部(矢上), 教授 (90357880)
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| 研究分担者 |
牧野 孝太郎 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 主任研究員 (30727764)
長谷 宗明 筑波大学, 数理物質系, 教授 (40354211)
齊藤 雄太 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 主任研究員 (50738052)
須藤 祐司 東北大学, 工学研究科, 教授 (80375196)
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| 研究期間 (年度) |
2019-04-01 – 2022-03-31
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| キーワード | 層状カルコゲナイド / テルライド / 遷移金属ダイカルコゲナイド / スパッタリング法 / 結晶化 |
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| 研究実績の概要 |
層状物質であるSb2Te3と強磁性体CoFeBの積層薄膜のスピンポンピング挙動に及ぼす結晶性の影響を調査し、原子配列が無秩序なアモルファス相に比べて、規則正しく配向させた結晶相においてスピン注入の高効率化を実現、論文を発表した。
層状物質のCr2Ge2Te6のアモルファス薄膜における低抵抗化の原因を調査する目的で、X線吸収分光法や、硬X線光電子分光法などによって局所構造や電子構造を調査委した。その結果、アモルファス相中に存在するCr原子の集合体（クラスター）の存在が電気抵抗に影響を与えていることを明らかにし論文発表した。
チェコの大学との国際共同研究を実施し、層状MoS２薄膜のアモルファス-結晶転移挙動の解明に関する論文や、アモルファス初期組成が結晶膜の品質に及ぼす影響等も調査するなど複数の論文を発表した。また、成膜法による膜質の違いなどに関する研究も共同で行い、現在投稿中である。
層状MoTe2薄膜については、アモルファスから準安定的な結晶相の形成を経て、構造変化が進む様子について、X線吸収法、X線回折法などによって詳細に調査した。現在は論文を提出し、査読中である。また、同じく層状MoTe2の単結晶において、コヒーレントフォノン分光法による超高速現象についても調査し、電子-フォノン相互作用による格子ダイナミクスについての論文も投稿、現在査読中である。
さらに今年度は、本研究の集大成とも言える層状カルコゲナイド薄膜の高配向スパッタ成膜に関するレビュー論文を執筆し、世界的な半導体製造における材料科学を扱う国際誌に発表した。
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| 現在までの達成度 (段落) |
令和3年度が最終年度であるため、記入しない。
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| 今後の研究の推進方策 |
令和3年度が最終年度であるため、記入しない。
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