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本年度も昨年度に引き続きアンホテリシンBの合成研究に着手した。
ポリオール部位の合成に関しては、前年度に合成した中間体より合成を進めることは困難であることが判明した。その原因として、分子内にケトンが存在することが考えられたため、工程を遡ったのちエステルの存在する基質を合成し、PMB基の脱保護を行うことで問題が解決された。その後、Dess-Martin酸化、Kraus-Pinnick酸化と続くエステル化によりSEMエステルを合成後、ベンジルエステルの脱保護とClaisen縮合を行いポリオールユニットの合成法を確立したその後の各種変換反応を経て、ポリオール部位の合成は完遂された。
続くポリオール部位の合成に関しては、1つ目のフラグメントの合成には既知の手法を参考に、トリメトキシホウ素よりアルキニルMIDAボロナートを合成後、ヒドロスズ化及びヨウ素化によりビニルヨージドへと変換後、Stilleカップリングとヨウ素化を二度行うことでトリエンユニットを合成した。一方で、2つ目のフラグメントの合成には問題が生じている。始め、有機分子触媒によるクロロアセトアルデヒドとプロパナールの不斉アルドール反応により光学活性なユニットの合成を試みたが、その立体選択性は満足のいくものではなかった。そこで、触媒の検討の結果フルオロアルキルスルホンアミドを有する触媒を用いた際に不斉アルドール反応における立体選択性を向上させることを見出した。その後3工程の変換反応を経た後にMarshallプロパルギル化による不斉点の構築を試みたが、目的の立体を有する化合物を立体選択的に合成することは困難であった。
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