| 研究課題/領域番号 |
19K04229
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| 研究機関 | 兵庫県立工業技術センター |
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研究代表者 |
泉 宏和 兵庫県立工業技術センター, その他部局等, 上席研究員 (70470226)
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| 研究期間 (年度) |
2019-04-01 – 2022-03-31
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| キーワード | レーザー光援用照射 / 薄膜 / マルチフェロイクス |
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| 研究実績の概要 |
微小領域における高精度な温度制御に必要な、駆動部を持たず小型化が可能な冷却技術として、制御の容易な電場を用いる電気熱量効果を利用する冷却技術が注目されている。その作業物質には、電場によって電気双極子の秩序が大きく変化する強誘電―常誘電相転移温度を動作温度付近に有する強誘電体が有力な候補となっている。一方、電気と磁気との間に電気磁気効果とよばれる交差相関が見られ、印加した電場によって分極だけでなく磁気スピンも制御することが可能とされる「マルチフェロイクス物質」を作業物質に用いることができれば、分極と磁気スピンの両方のエントロピー変化を同時に利用することで、より効率のよい冷却システムの構築が期待できる。本研究では、高電場印加の可能な電気絶縁性に優れた高品質薄膜作製プロセスを確立し、マルチフェロイクス物質の相転移温度近傍における分極と磁気スピンの相関について明らかにすることで、新奇冷却素子の創製についての知見を得ることを目的としている。今年度はまず、高品質薄膜作製プロセスの確立について、その場レーザー光援用照射を伴う薄膜作製法による高品質薄膜の作製に取り組んだ。援用照射レーザー光のパワー密度を変化させながら成膜を行うシステムを構築し、電気絶縁性に優れた高品質薄膜を得るための成膜条件の最適化を行うなど、おおむね計画通りに進捗した。2020年度は、応力印加や元素置換により転移温度を制御した薄膜を作製し、相転移温度近傍での特性評価を行う計画である。
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| 現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
2: おおむね順調に進展している
理由
その場レーザー光援用照射を伴う薄膜作製法による高品質薄膜の作製のため、援用照射レーザー光のパワー密度を変化させながら成膜を行うシステムを構築することができた。
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| 今後の研究の推進方策 |
応力印加や元素置換により転移温度を制御した薄膜の作製と特性評価に取り組む。
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| 次年度使用額が生じた理由 |
当初、参加を計画していた学術講演会が開催中止となったために、使用を予定していた旅費の執行が行えなかった。次年度には、より積極的な成果の公表と調査のために、生じた次年度使用額を使用する。
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