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2021 年度 実績報告書

Ⅳ-Ⅵ族半導体を利用したスピン流-電流変換電極応用に関する研究

研究課題

研究課題/領域番号 19K04470
研究機関山口大学

研究代表者

浅田 裕法  山口大学, 大学院創成科学研究科, 教授 (70201887)

研究分担者 福間 康裕  九州工業大学, 大学院情報工学研究院, 教授 (90513466)
仙波 伸也  宇部工業高等専門学校, 電気工学科, 教授 (40342555)
研究期間 (年度) 2019-04-01 – 2022-03-31
キーワードⅣ-Ⅵ族半導体 / スピン流 / スピンホール効果
研究実績の概要

今年度はGGG(Gadolinium Gallium Garnet) (100)基板上において主にPbTeについて成長条件等の詳細な検討を行った。その結果、基板面と同じ(100)方向に高配向したPbTe膜が得られた。X線回折パターンのピーク強度については成長温度200℃と300℃の場合で同程度であったが、原子間力顕微鏡による表面測定を行ったところ成長温度300℃の場合と比べ、200 ℃の方が表面平坦性がよかった。しかしながら、BaF2(111)の場合と比べ、X線回折パターンのピーク強度が弱く、キャリア濃度が低いにも関わらず移動度は一桁低い値であった。次に平坦性向上の目的から、GGG上にPbTeを室温で成膜した後、アニールすることを試みた。その結果、300℃アニールにおいてX線回折パターンのピーク強度が強くなり、基板温度を上げて成長した膜と同程度のピーク強度が得られた。また、平均面粗さは約1 nmであり、基板温度を上げた場合に比べ、平坦性が向上した。しかしながら、抵抗が高く電気的特性は得られなかった。そこで、Te供給量を変えた膜を作製し、300℃でのアニールを行ったが、Te組成の変調はみられたものの、すべての膜において高抵抗であり電気的特性は得られなかった。GGG/PbTe(10 nm)/NiFe(3 nm)の膜を素子化し、スピントルク強磁性共鳴実験を行った。外部磁場の角度を変えて測定したシグナルから対称成分と非対称成分を抽出したところ、白金と同じく正のスピンホール角を持つことがわかった。

  • 研究成果

    (1件)

すべて 2021

すべて 学会発表 (1件)

  • [学会発表] MBE法によるPbTeの成長と強磁性共鳴測定2021

    • 著者名/発表者名
      火浦千裕, 松原武志, Utkarsh Shashank, 福間康裕, 浅田裕法, 岸本堅剛, 小柳剛
    • 学会等名
      2021年度応用物理・物理系学会中国四国支部合同学術講演会

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公開日: 2022-12-28  

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