研究成果の概要 |
後処理によるMFIゼオライト膜の二酸化炭素/炭化水素透過率比の向上を検討した。処理前の単成分ガス透過による細孔径評価では、0.56nmとMFIゼオライトの細孔である0.55nmと同レベルであった。処理濃度を0. 2M/Lと固定して、3, 3, 3-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン (TFPrTMOS)処理を行った。CO2/CH4透過率比1.34から16.0へ大きく向上した。処理後の膜の細孔径を、単成分ガス透過試験で評価した。TFPrTMOS処理後は0.498nmであった。TFPrTMOSのテトラフルオロ基のサイズが大きいため、二酸化炭素選択透過性が改善した。
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