| 研究課題/領域番号 |
19K05315
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| 研究機関 | 摂南大学 |
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研究代表者 |
山田 逸成 摂南大学, 理工学部, 准教授 (40586210)
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| 研究期間 (年度) |
2019-04-01 – 2023-03-31
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| キーワード | ワイヤグリッド / 異方性エッチング / 干渉露光 |
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| 研究実績の概要 |
2020年度の実施計画「Si酸化膜の周期構造形成技術の構築」：フォトレジストのパターニングには低コストの設備費で、短時間で一括露光が可能な干渉露光法を用いる。ここではレジストの様々な周期構造（格子やメッシュ、ドット構造）のパターニングを安定的に形成する条件を見出す。赤外域で回折損失が生じないように300nm～2μm程度の周期を安定的に、かつ均一にSi酸化膜の周期構造を形成する。
2020年度実績概要：アルカリエッチングでSi格子を形成するために、Si酸化膜のマスクを形成する必要がある。Si酸化膜パターンは次の工程で形成を試みた。Si基板を加熱温度800度の加熱で得られたSi酸化膜表面にフォトレジストを塗布した後、二光束干渉露光・現像、そして、このパターンをマスクとしてフッ酸の浸漬により、Si酸化膜の格子（周期）構造を形成することができた。アルカリ溶液（水酸化カリウム水溶液）による異方性湿式エッチング（Siの結晶構造に依存し、結晶方向によって加工速度が異なる性質がある。異方性エッチングを行う場合、基板には単結晶のSiを使用し、エッチング液にはアルカリ水溶液を用いられる。単結晶のSiウエハは、結晶方向によって深溝加工を行うことが可能。）により、格子周期1μm、格子深さ 330 nmのSi格子を得ることができた。この表面へのAlの斜め蒸着の実施により、赤外域で20dB以上の偏光特性を有する赤外用ワイヤグリッド偏光子を得ることができた。
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| 現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
1: 当初の計画以上に進展している
理由
異方性アルカリエッチングにより、Si格子を形成することができ、ワイヤグリッド偏光子を作製し、赤外域で高い偏光特性を得ることができたから。
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| 今後の研究の推進方策 |
同様の手法でSi表面に2次元構造を形成し、波長フィルタの形成を試みる。
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| 次年度使用額が生じた理由 |
成膜装置の点検や、得られた実験結果を解析するために現在使用しているシミュレーションソフトの保守更新を行うことを検討するため必要とした。また得られた試料の表面解析に必要とするスパッタ装置のターゲットも必要である。
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