研究課題/領域番号 |
19K05315
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研究機関 | 摂南大学 |
研究代表者 |
山田 逸成 摂南大学, 理工学部, 准教授 (40586210)
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研究期間 (年度) |
2019-04-01 – 2023-03-31
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キーワード | ワイヤグリッド / 異方性エッチング / 干渉露光 / Si |
研究実績の概要 |
微細(サブ波長)周期構造で構成する赤外デバイスの低コスト化のために、二光束干渉露光法と赤外光を透過するSiのアルカリ異方性エッチング、金属の斜め蒸着法を併用したプロセス技術により、Siと金属の微細周期構造で構成する赤外デバイスを製作することを目的としている。 Siのアルカリ異方性エッチングを行う上でSi酸化膜のパターニングを行うことが重要となる。このSi酸化膜においては、Si基板を加熱温度800度、時間60分の条件で処理することでSi酸化膜の生成を確認できており、Si酸化膜表面に二光束干渉露光法とアルカリエッチングすることで、格子周期1μmのSi格子を5mm径以上の面積で得ることができ赤外波長よりも、狭周期構造を得ることができている。
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現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
2: おおむね順調に進展している
理由
2021年度の実施計画では、酸化膜をパターニングしたSi基板を、アルカリエッチングし、異方性エッチングを行い、直径5mm以上の大きさで1以上のアスペクト比(格子深さと格子幅との比)、かつSi格子周期2μm以下の周期構造を形成することを目指すことであった。それに対して、周期1μm,格子幅300nm程度,格子高さ330nmの構造が5mm径以上の面積で形成することができているため、おおむね順調に進展していると考えている.
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今後の研究の推進方策 |
Si格子構造を形成することはできているので、Siの2次元構造を形成し、金属の成膜によって波長フィルタの作製に向けた製作条件の探索を行う。
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次年度使用額が生じた理由 |
成膜装置の点検や、成膜材料の購入などに使用する予定である。
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