2021 年度研究成果報告書

配列制御シリコーンの合成

研究課題

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研究課題/領域番号	19K05468
研究種目	基盤研究(C)
配分区分	基金
応募区分	一般
審査区分	小区分33020:有機合成化学関連
研究機関	国立研究開発法人産業技術総合研究所
研究代表者	松本和弘国立研究開発法人産業技術総合研究所, 材料・化学領域, 主任研究員 (40512182)
研究期間 (年度)	2019-04-01 – 2022-03-31
キーワード	シリコーン / ポリシロキサン / シロキサン / 配列制御 / ワンポット合成 / 合成化学
研究成果の概要	本研究の目的は、ポリシロキサン（シリコーン）の配列制御合成法を開発することである。これを実現するために、研究代表者がこれまでの研究で開発しているオリゴシロキサンのワンポット配列制御合成法により、両末端にアルコキシシリル基を有する配列制御オリゴシロキサンを合成し、これをトリヒドロシランと交互共重合させるアプローチをとった。研究計画の通り、ワンポット配列制御合成法を用いてスピロ環構造を有するオリゴシロキサン化合物を合成し、これをホウ素触媒存在下にて、トリヒドロシランと交互共重合することで、スピロ環構造を保持した大環状ポリシロキサンを得ることに成功した。
自由記述の分野	有機合成
研究成果の学術的意義や社会的意義	ポリシロキサンは一般にはシリコーンとして知られており、耐熱性や耐寒性などの種々の優れた性質により、様々な産業分野で広く使用されている。Si-H基を有するポリシロキサンを官能基を有するオレフィンのヒドロシリル化により修飾する手法は、導入する官能基に応じて様々な特性を付与できることから、変性シリコーンの製造法として幅広く用いられている。本研究課題で開発したスピロ骨格という特徴的な主骨格を有し、なおかつ規則的にSi-H基を有するポリシロキサンも、各種オレフィンとのヒドロシリル化によって様々な官能基を導入できることから、新規な変性シリコーン材料としての応用が期待される。