| 研究課題/領域番号 |
19K05595
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 審査区分 |
小区分35020:高分子材料関連
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| 研究機関 | 横浜国立大学 |
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研究代表者 |
生方 俊 横浜国立大学, 大学院工学研究院, 准教授 (00344028)
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| 研究分担者 |
須丸 公雄 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 生命工学領域, 研究グループ長 (40344436)
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| 研究期間 (年度) |
2019-04-01 – 2022-03-31
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| キーワード | 表面レリーフ / 光物質移動 / アントラセン / 光二量化 / 脱濡れ |
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| 研究成果の概要 |
基板表面から薄膜が剥離する脱濡れ現象を空間的に制御することで、これまでに類のない高速物質移動に基づいた表面レリーフ形成システムを構築することを目的として、表面修飾剤による光連結性表面基板の開発、光応答性の分子量変換材料の開発を進め、これらを用いることで脱濡れを利用した超高速マイクロ表面レリーフ形成を達成した。
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| 自由記述の分野 |
光機能化学
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
薄膜の脱濡れ現象は、ミクロな構造形成を阻む不安定要因であり、産業界において忌嫌われる現象であった。しかし、本研究成果により、脱濡れ現象を制御する方法論が提示され、これを積極的に活用することで、物質移動に伴う光誘起表面レリーフ形成の高速化が達成されることが示された。
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