| 研究課題/領域番号 |
19K05663
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| 研究機関 | 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 |
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研究代表者 |
吉村 公男 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 高崎量子応用研究所 先端機能材料研究部, 主幹研究員(定常) (40549672)
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| 研究期間 (年度) |
2019-04-01 – 2023-03-31
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| キーワード | パルスEUV / リソグラフィ / レジスト材料 / セラミック前駆体高分子 / 有機－無機転換 |
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| 研究実績の概要 |
本年度は、セラミック前駆体高分子のポリカルボシラン（PCS）とアリルヒドリドポリカルボシラン（AHPCS）のブレンド材料をシリコンウェハー上に成膜したサンプルについて、電子線露光装置並びに軟X線レーザーを用いた照射実験を行い、パターン形成特性を調べた。その結果、PCSのみの場合に見られた感度の低さや、AHPCSの照射領域以外の部分まで不溶化してしまう問題点を克服できるポリマーアロイの形成に成功した。セラミック前駆体高分子への放射線グラフト重合による機能性の付与では、EUVに対する感度の増強を目指し、EUVの吸収断面積の大きい元素を分子構造に有するアクリル系モノマーについて、放射線重合によるポリマーの作製を行い、分子量340,000のポリマーを得た。シリコンウェハー上に成膜したサンプルに対し電子線並びに軟X線レーザー照射を行い、感度曲線を作成した結果、基準となるポリメタクリル酸メチル（PMMA）に対して、作製したポリマーでは、設計指針通り感度が向上することがわかった。
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| 現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
2: おおむね順調に進展している
理由
セラミック前駆体高分子のPCS並びにAHPCSについて、前年度までの検討で明らかになった、感度に関する問題点を克服できるポリマーアロイを形成できた。これは室温で固体のPCSに液体のAHPCSをブレンドすることで、電子線やEUV照射時に生じるラジカルやイオン対の伝播特性を調整できたためと考えられる。また、EUVの吸収断面積の大きい元素を分子構造に導入し、EUVに対する感度の向上を図る取り組みにおいても設計指針通り感度が向上することを確認できている。
これらの結果から、年度計画はほぼ達成できたと考え、次年度以降に繋がる多くの知見が得られたため、おおむね順調に進展していると判断した。
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| 今後の研究の推進方策 |
今年度得られた知見をもとに、研究の最終目的である新たなEUV用レジストプロセスの開発に向けて以下の検討を行う。
・セラミック前駆体ポリマーアロイの化学修飾。
・ラインパターンの形成と焼成条件の探索。
・形成パターンのドライエッチング耐性の評価。
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| 次年度使用額が生じた理由 |
今年度は、合成試薬、ガラス器具、試料評価用の消耗品について概ね予定通り支出したが、旅費や学会参加費の支出が減少したため、全体として約30万円の繰越が生じた。次年度は、合成のための試薬、ガラス器具、試料評価用の消耗品について引き続き支出する。また、旅費の繰越分については、増加が見込まれるEUV照射実験のための旅費交通費に充てる。その他、得られた研究成果を国内外の学会で発表する旅費や学会参加登録費用について支出する。
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