| 研究課題/領域番号 |
19K05960
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 審査区分 |
小区分38060:応用分子細胞生物学関連
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| 研究機関 | 国立研究開発法人理化学研究所 |
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研究代表者 |
上田 実 国立研究開発法人理化学研究所, 環境資源科学研究センター, 研究員 (30632541)
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| 研究分担者 |
工藤 紀雄 国立研究開発法人理化学研究所, 環境資源科学研究センター, 上級研究員 (80632421)
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| 研究期間 (年度) |
2019-04-01 – 2022-03-31
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| キーワード | ヒストンアセチル化修飾 / ヒストン脱アセチル化酵素 / HDAC阻害剤 / シロイヌナズナ / 環境ストレス応答 |
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| 研究成果の概要 |
生命の遺伝情報を刻むDNAを折り畳む働きを有するヒストンは、そのN末端で起こるアセチル化等の化学修飾を介して、遺伝子発現を制御する。植物の環境ストレス応答でもその化学修飾を介して重要な役割を果たすことが知られている。代表者はヒストンの脱アセチル化を触媒するHDACの一つ、HDA19の機能抑制がシロイヌナズナの環境ストレス耐性を高めることを見出している。本研究では、HDA19の構造改変によりストレス耐性を高めつつ、結実性低下等の不良形質を回避できることを示した。また、HDA19の酵素活性測定系やクラスI HDAC活性阻害を可視化する系の確立により、HDA19等へ作用する化合物探索を可能とした。
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| 自由記述の分野 |
エピゲノム制御
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
化合物処理という一過的な活性調節は、不稔などの農業上の不良形質の顕出を抑制する効果が期待できる。本研究で確立したin vivoやin vitroでのアッセイ系を利用することで、新規の化合物探索が可能となった、今後はよりオフターゲットの少ない、植物HDACにのみ作用する化合物の探索を進め、より緻密なストレス耐性操作方法の確立が期待できる。また、本研究期間内に国際共同研究も展開できており、HDA19が非ヒストンタンパク質の脱アセチル化修飾にも関与することが示唆されている。更なる解析を進めることで、新規のストレス耐性付与機構の同定が期待できる。
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