| 研究課題/領域番号 |
19K10681
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 審査区分 |
小区分58040:法医学関連
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| 研究機関 | 東京医科歯科大学 |
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研究代表者 |
上村 公一 東京医科歯科大学, 大学院医歯学総合研究科, 教授 (30244586)
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| 研究分担者 |
秋 利彦 東京医科歯科大学, 大学院医歯学総合研究科, 准教授 (60304474)
船越 丈司 東京医科歯科大学, 大学院医歯学総合研究科, 助教 (40444715)
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| 研究期間 (年度) |
2019-04-01 – 2022-03-31
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| キーワード | ヒ素 / 神経細胞 / アポトーシス / ネクロトーシス / フェロトーシス / ストレス顆粒 |
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| 研究成果の概要 |
ヒ素によりマウス由来神経芽細胞（Neuro2A）の死細胞増加、細胞膨化、濃度依存的生存率低下、DNAマイクロアレイ、リアルタイムPCRでフェロトーシスに関連するCHAC1上昇、ウェスタンブロットでCaspase3活性化、二次ネクロ―シスを誘導するDFNA5/GSDMEの活性化、フェロトーシスマーカーGPX4の発現減少、高濃度でのストレス顆粒の発現を認めた。
低濃度群ではアポトーシスが起こるが、フェロトーシスも一部関与していた。濃度依存的にGSDMEによる二次ネクローシス（パイロトーシス）が顕著になり、高濃度群で細胞保護作用によるストレス顆粒形成もあり、濃度依存的な細胞死・生存応答も示された。
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| 自由記述の分野 |
法医学
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
ヒ素による神経細胞死の機構の解明と治療への応用を目指した研究である。低濃度の三酸化二ヒ素曝露でアポトーシスとフェ ロトーシスが誘導されるが、高濃度暴露で細胞保護機構であるストレス顆粒が形成され、これらの細胞死経路が一部抑制される可能性が示された。他方、GSDMEによる二次ネクローシス（パイロトーシス）の誘導を介した細胞死経路へと 誘導されている可能性が示唆された。なお、本実験条件下ではネクロトーシスの関与については確認できなかった。
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