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2020 年度 研究成果報告書

Hf系強誘電体ゲートFETのチャネル伝導機構の解明と人工神経回路網への応用

研究課題

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研究課題/領域番号 19K15021
研究種目

若手研究

配分区分基金
審査区分 小区分21050:電気電子材料工学関連
研究機関東京大学

研究代表者

トープラサートポン カシディット  東京大学, 大学院工学系研究科(工学部), 助教 (00826472)

研究期間 (年度) 2019-04-01 – 2021-03-31
キーワード強誘電体FET / FeFET / AI計算 / HZO / 界面
研究成果の概要

本研究はAIハードウェアを構成するハフニア系強誘電体トランジスタの特性改善を目指してプロセス設計と動作機構の解明に成功した。強誘電体トランジスタの作製プロセスにおけるトレードオフを克服し、優れた入出力特性とメモリ特性をもつ強誘電体トランジスタの作製工程を確立した。また、強誘電体トランジスタを評価する新規の測定手法を提案して、内部で起こる物理現象と動作メカニズムを解明することで、用途に応じたデバイスの設計指針を確立した。

自由記述の分野

電子デバイス

研究成果の学術的意義や社会的意義

本研究で達成した強誘電体トランジスターの動作機構の解明と設計指針の確立により、強誘電体材料分野、固体物理分野、電子デバイス分野、およびAI分野をはじめとする幅広い研究分野に有意義な知見を得た。次世代メモリや次世代AIハードウェアとして世界中の企業等が検討し始めて期待されているこの材料・デバイスの基礎研究を行い、技術の基盤を作ったことで、技術の実用化と早期普及につながると期待される。

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公開日: 2022-01-27  

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