| 研究課題/領域番号 |
19K15563
|
|---|
| 研究機関 | 大阪大学 |
|---|
研究代表者 |
鈴木 至 大阪大学, 環境安全研究管理センター, 助教 (70779777)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2019-04-01 – 2021-03-31
|
| キーワード | 無保護アジリジン合成 / アジリン / ケテンシリルアセタール / インジウム触媒 |
|---|
| 研究実績の概要 |
ケイ素中間体の「（脱）保護」を経るアジリンとエノラートの反応による無保護アジリジン合成の検討を行った。実際にシリルケテンアセタールをケイ素種としてアジリジンと反応をさせたところ、－７８℃でヨウ化インジウム触媒を用いることで効率よく生成物の無保護アジリジンを与えることを見出した。ヨウ化インジウム以外の、様々なルイス酸触媒も同様の条件で検討したが、生成物は全く得られなかった。さらに、ケイ素種の当量や反応条件を制御することで無保護ピロリドンを選択的に得ることにも成功した。現在それらの基質の展開を行っており、アジリジンに関しては比較的広範な官能基許容性を示すことが明らかとなりつつある。一方で、ケイ素種に関してはシリルケテンアセタールに限定されており、さらなる基質検討が必要である。またケイ素保護の置換基はトリメチルシリル基に限定されることが判明した。一方、同様の反応がルイス塩基である酢酸リチウムを触媒とすると高収率で進行することも見出した。反応中間体として考えられる窒素上がケイ素置換されたアジリジンの捕捉を試みたが、確たる存在の証拠は得られなかった。また、立体選択的な反応を試みるためキラル配位子を最適条件下に加えて検討を行ったが、生成物が得られなかった。今後はヨウ化インジウム触媒のみで反応が進行した特異性に関して計算化学などを用いて検討する予定である。また、立体選択的な反応では配位子による触媒のルイス酸性の低下が原因と考えられるため、今後は異なる金属ルイス酸との組み合わせを検討する。
|
| 現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
3: やや遅れている
理由
当初計画していた計算化学による遷移状態の検討および生成物の応用研究に関して検討が行えていないため。
|
| 今後の研究の推進方策 |
ヨウ化インジウム触媒の特異性および反応遷移状態の計算化学によるアプローチとケイ素源の触媒化に向けた検討を行う。
|
