2020 年度実績報告書

ウシ内在性レトロウイルスK1由来エンベロープの受容体分子の探索

研究課題

研究課題/領域番号	19K15989
研究機関	国立研究開発法人産業技術総合研究所
研究代表者	仲屋友喜国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 主任研究員 (00713562)
研究期間 (年度)	2019-04-01 – 2021-03-31
キーワード	内在性レトロウイルス / 受容体 / スクリーニング
研究実績の概要	今年度は受容体スクリーニングに必要な試料を揃えた。BERV-K1 EnvをシュードタイプしたVSVを作製するため、まずBERV-K1 Envのin vitroでの発現を試みたところ、Cos-7細胞で発現しやすいベクター系であることが確認できた。過去に他研究グループから報告のとおり、BERV-K1に近縁なHERV-KのEnvは、C末端配列がVSVへのシュードタイプ効率化に重要であったことから、BERV-K1 EnvのC末端をHERV-K型に改変した遺伝子発現ベクターを作製した。以降は、BERV-K1 EnvシュードタイプVSVの作製に関する研究機関内での許可が降りなかったことから、実際のスクリーニングには到達せずに研究期間が終了した。