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2021 年度 研究成果報告書

強磁性ナノグラニュラー膜を用いた非相反ナノフォトニックデバイスの創出

研究課題

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研究課題/領域番号 19K21959
研究種目

挑戦的研究(萌芽)

配分区分基金
審査区分 中区分21:電気電子工学およびその関連分野
研究機関東京大学

研究代表者

岩本 敏  東京大学, 先端科学技術研究センター, 教授 (40359667)

研究分担者 小林 伸聖  公益財団法人電磁材料研究所, その他部局等, 研究員(移行) (70205475)
研究期間 (年度) 2019-06-28 – 2022-03-31
キーワード磁気光学効果 / ナノグラニュラー膜 / フォトニック結晶 / 導波路
研究成果の概要

セラミックと微細な自生グラニュラーからなるナノグラニュラー膜(NG膜)は、光通信波長帯において大きな磁気光学効果を示すことが知られている。本研究では、NG膜のナノフォトニクス応用に必要となる、透明性の高いNG膜、高屈折率NG膜の開発に成功した。
また、フッ化物を母材とした高透明度NG膜を用いたフォトニック結晶導波路の特性を理論的に検討し、現状の材料特性で得られる性能を明らかにした。さらに、誘電率がゼロに近い値を持つ磁気光学材料を用いることにより、通信波長帯において広い波長範囲で動作し、構造揺らぎに強い一方向導波路デバイスが実現できる可能性があることを理論的に示した。

自由記述の分野

ナノフォトニクス

研究成果の学術的意義や社会的意義

本研究成果は、NG膜の磁気光学材料としての応用範囲を拡げるとともに、一方向性光導波路やそれを利用した小型アイソレータ、構造揺らぎがあっても安定に動作するレータなどへの応用が期待される。さらに、これらのデバイスは、超高密度・高機能な光回路、それを活用した光配線技術や光量子技術の高性能化の実現にも貢献し得るものでもある。

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公開日: 2023-01-30  

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