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2019 年度 実施状況報告書

エキシトンが情報を伝達し記憶する革新的古典/量子デバイスの創製

研究課題

研究課題/領域番号 19K21978
研究機関九州大学

研究代表者

板垣 奈穂  九州大学, システム情報科学研究院, 教授 (60579100)

研究期間 (年度) 2019-06-28 – 2021-03-31
キーワードエキシトン / ZION / トランジスタ / 量子構造 / プラズマエレクトロニクス
研究実績の概要

本研究は,電子-正孔が再結合する過程 (=中間状態)として扱われてきたエキシトンを情報担体として進化させ,その伝導および記憶を利用した革新的古典/量子デバイスの創製を目指すものである.2019年度はまず,オリジナル材料ZIONを用いて,室温・長寿命エキシトンを無機材料で実現し,これにより,エキシトンをキャリアとする新概念トランジスタの室温動作を実現することを目標とした.具体的には,新材料ZIONが有する潜在的な高いエキシトン束縛エネルギーとピエゾ効果を,代表者が考案した逆Stranski-Krastanov (SK) モードを利用した高品質結晶成長技術により発現させ,デバイスの室温動作に欠かせない,高温・長寿命エキシトンの実現を試みた.その結果, ZION/ZnO歪量子井戸を用いたエキシトントランジスタにおいて,ゲートへの光照射によるスイッチングに成功した.さらに,エキシトンデバイスに欠かせない高性能アモルファスIn2O3:Sn (a-ITO)について,プロセスデータセットの取得と,サポートベクトルマシンおよびガウス課程を用いた機械学習を行った.従来,製膜実験から膜質評価まで時間がかかることから,データ収集のコストが非常に大きく,幾多ある実験条件から最適条件を見出すことは極めて困難であったが,本研究での機械学習により,短時間でその条件を見出すことに成功した.具体的にはまず,約170の製膜データセットに対して機械学習を用いて薄膜の結晶構造を分類し,アモルファス/結晶の境界条件,ならびに,低抵抗率,高移動度となる実験条件を予測した.この結果,非固溶系の不純物の微量添加により,従来手法では不可能であった,高移動度且つ完全アモルファス構造を有するa-ITOを得るに至った.

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

本研究では,電子-正孔が再結合する過程 (=中間状態)として扱われてきたエキシトンを情報担体として進化させ,その伝導および記憶を利用した革新的古典/量子デバイスを創製することを目指している.現在までに,新材料ZIONが有する潜在的な高いエキシトン束縛エネルギーとピエゾ効果を,代表者が考案した逆Stranski-Krastanov (SK) モードを利用した高品質結晶成長技術により発現させ,ZION/ZnO歪量子井戸を用いたエキシトントランジスタのゲートへの光照射によるスイッチングに成功している.さらに,エキシトンデバイスに欠かせないアモルファスIn2O3:Sn (a-ITO)について,機械学習を駆使することによりその高性能化に成功しており,研究は順調に進展しているといえる.
2020 年度以降は,エキシトントランジスタのゲートへの電圧印加によるスイッチングの実現を目指すとともに,ZION歪量子井戸内のエキシトンについて,量子状態の保存と破壊の機構をRabi振動の観測を通して解明する.これによりエキシトンを情報担体とした二つの革新的古典/量子デバイスの早期の動作実証を目指す.

今後の研究の推進方策

今後は,代表者オリジナルのシーズ技術を背景に,エキシトンを情報担体とした二つの革新的古典/量子デバイスの動作実証に注力する.そのための具体的手法を以下に記す.
1. 新概念エキシトントランジスタの室温動作実証:エキシトントランジスタは,電気-光信号(E/O)変換の超小型化・高速化を可能にするため,LSI内光配線化のブレークスルーをもたらすと期待されているが,125K以下の低温での動作報告しかなされていない.2019年度に我々は,オリジナル材料ZIONからなる歪量子井戸を用いることで,エキシトントランジスタのゲートへの光照射によるスイッチングに成功した.今後は,ZIONの結晶成長手法として新たに開発した2段階成長法を用いることでZION膜のさらなる高品質化を実現する.これにより,エキシトントランジスタにおいて,ゲートへの電圧印加によるスイッチングの実現を目指す.
2. 室温汎用型エキシトン量子ビットの実現:エキシトン量子ビットはゲートに光が使えるという大きなメリットがあり,相互干渉性の低い光配線が使用できるため集積化に有利である.従来のエキシトン量子ビットでは,「光による制御性」と「コヒーレンス時間の長さ」の両立が課題であったが,本研究では室温・長寿命エキシトンを用いることによりそれらを同時に達成するとともに,従来エキシトン量子ビットでは不可能であった室温での量子メモリ動作を実現する.研究期間内に,ZION歪量子井戸内のエキシトンについて,量子状態の保存と破壊の機構をRabi振動 (コヒーレント光が照射された量子状態が光の吸収と放出を繰り返す現象)の観測を通して解明する.

次年度使用額が生じた理由

次年度使用額が生じた理由:当初購入を予定していた,量子井戸形成用真空装置治具の購入費が少なく済んだため.またその他に計上していた分析費用についても,研究協力者にその分析を依頼したことで0となった.予定していた学会参加も来年度に行うことにしたため,未使用額が生じた.
次年度使用額の使用計画:次年度は,デバイスの作製・動作実証に注力する予定としており,そのための各種材料の購入費や真空装置部品,電子部品,ならびにそれらの成果発表のための国内外の学会参加費および旅費に支出予定である.また,作成したデバイスの評価のための分析依頼や分析のための旅費等に使用する予定である.

  • 研究成果

    (19件)

すべて 2020 2019 その他

すべて 雑誌論文 (4件) (うち査読あり 3件、 オープンアクセス 1件) 学会発表 (13件) (うち国際学会 9件、 招待講演 2件) 備考 (2件)

  • [雑誌論文] Growth of single crystalline films on lattice-mismatched substrates through 3D to 2D mode transition2020

    • 著者名/発表者名
      Itagaki Naho、Nakamura Yuta、Narishige Ryota、Takeda Keigo、Kamataki Kunihiro、Koga Kazunori、Hori Masaru、Shiratani Masaharu
    • 雑誌名

      Scientific Reports

      巻: 10 ページ: 4669

    • DOI

      https://doi.org/10.1038/s41598-020-61596-w

    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Improved Nanoscale Al-Doped ZnO with a ZnO Buffer Layer Fabricated by Nitrogen-Mediated Crystallization for Flexible Optoelectronic Devices2020

    • 著者名/発表者名
      Suhariadi Iping、Itagaki Naho、Shiratani Masaharu
    • 雑誌名

      ACS Applied Nano Materials

      巻: 3 ページ: 2480~2490

    • DOI

      https://doi.org/10.1021/acsanm.9b02571

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Room-temperature fabrication of amorphous In2O3:Sn films with high electron mobility via nitrogen mediated amorphization2020

    • 著者名/発表者名
      K. Imoto, H. Wang, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki
    • 雑誌名

      J. Phys. Conf. Ser.

      巻: - ページ: -

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Fabrication of low resistive amorphous In2O3:Sn films using impurity mediate amorphization method: Effects of substrate temperature2019

    • 著者名/発表者名
      S. Muraoka, D. Yamashita, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki
    • 雑誌名

      Proc. 41st International Symposium on Dry Process

      巻: なし ページ: P-41

  • [学会発表] Sputtering Deposition with Impurities: Another Key Parameter to Control Film Structures2019

    • 著者名/発表者名
      N. Itagaki, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani
    • 学会等名
      Materials Research Meeting 2019 (MRM2019)
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] ZnO Based Semiconductors for Excitonic Devices2019

    • 著者名/発表者名
      N. Itagaki, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani
    • 学会等名
      Materials Research Meeting 2019 (MRM2019)
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Developing Prediction of Amorphization Condition Models from Sputter Deposition Experimental Results by Machine Learning Method2019

    • 著者名/発表者名
      K. Kamataki, R. Iwamoto, S. Okunaga, S. Muraoka, D. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani
    • 学会等名
      Materials Research Meeting 2019 (MRM2019)
    • 国際学会
  • [学会発表] Tuning Parameters of Indium Tin Oxide Sputter Processing via Bayesian Optimization2019

    • 著者名/発表者名
      R. Iwamoto, S. Okunaga, S. Muraoka, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani
    • 学会等名
      20th Workshop on Fine Particle Plasmas
    • 国際学会
  • [学会発表] Sputter Epitaxy of (ZnO)x(InN)1-x films for Excitonic Transistors2019

    • 著者名/発表者名
      R. Narishige, N. Miyahara, K. Kaneshima, D. Yamashita, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki
    • 学会等名
      The 4th Asian Applied Physics Conference
    • 国際学会
  • [学会発表] Machine Learning Analysis for Prediction of Key Plasma Process Parameters2019

    • 著者名/発表者名
      R. Iwamoto, S. Okunaga, K. Kamataki, H. Hara, K. Koga, M. Shiratani
    • 学会等名
      The 4th Asian Applied Physics Conference
    • 国際学会
  • [学会発表] Effects of Substrate temperature on Crystal Quality of (ZnO)x(InN)1-x Films Fabricated by Sputter Epitaxy2019

    • 著者名/発表者名
      K. Kaneshima, N. Miyahara, D. Yamashita, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki
    • 学会等名
      The 4th Asian Applied Physics Conference
    • 国際学会
  • [学会発表] Surface morphology of single-crystal ZnO films on sapphire substrates fabricated by sputter epitaxy *Yuta Nakamura, Soichiro Muraoka, Kunihiro K2019

    • 著者名/発表者名
      Y. Nakamura, S. Muraoka, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki
    • 学会等名
      The 4th Asian Applied Physics Conference
    • 国際学会
  • [学会発表] Fabrication of low resistive amorphous In2O3:Sn films using impurity mediate amorphization method: Effects of substrate temperature2019

    • 著者名/発表者名
      S. Muraoka, D. Yamashita, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki
    • 学会等名
      41st International Symposium on Dry Process (DPS2019)
    • 国際学会
  • [学会発表] 不純物添加アモルファス化法による低抵抗アモルファスITO膜の作製: 基板温度の影響2019

    • 著者名/発表者名
      村岡宗一郎, 山下大輔, 鎌滝普礼, 古閑一憲, 白谷正治, 板垣奈穂
    • 学会等名
      第36回プラズマ・核融合学会年会
  • [学会発表] (ZnO)x(InN)1-x膜のスパッタエピタキシーにおける基板温度の影響2019

    • 著者名/発表者名
      金島健太郎, 宮原奈乃華, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 古閑一憲, 白谷正治, 板垣奈穂
    • 学会等名
      第36回プラズマ・核融合学会年会
  • [学会発表] スパッタエピタキシーによるサファイア基板上への単結晶ZnO膜の成長2019

    • 著者名/発表者名
      中村優太, 村岡宗一郎, 鎌滝晋礼, 古閑一憲, 白谷正治, 板垣奈穂
    • 学会等名
      第36回プラズマ・核融合学会年会
  • [学会発表] ベイズ的最適化による高移動度アモルファスITO/In2O3成膜条件の探索2019

    • 著者名/発表者名
      岩本亮介, 鎌滝晋礼, 村岡宗一郎, 山下大輔, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治
    • 学会等名
      第36回プラズマ・核融合学会年会
  • [備考] 九州大学研究者情報

    • URL

      http://hyoka.ofc.kyushu-u.ac.jp/search/details/K003622/

  • [備考] 電子材料工学研究室

    • URL

      http://plasma.ed.kyushu-u.ac.jp/~inorganic/

URL: 

公開日: 2021-01-27  

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