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2020 年度 実績報告書

窒化インジウム系半導体の合成法確立と高性能p/n接合素子への展開

研究課題

研究課題/領域番号 19K22228
研究機関東京工業大学

研究代表者

松崎 功佑  東京工業大学, 元素戦略研究センター, 特任助教 (40571500)

研究期間 (年度) 2019-06-28 – 2021-03-31
キーワード窒化物 / アモノサーマル / 半導体
研究実績の概要

In窒化物の合成法(窒化法)について、低温でアンモニアを分解し活性な窒素化学種を作る直接窒化法を用いて前年度から引き続き薄膜について検討した。また本年度からは単結晶バルク作製に着手した。
1.In金属薄膜をNH3単体では窒化できない低温領域において、酸素をNH3に微量添加した考案の直接窒化法ではIn金属の部分窒化すること、また酸化性ガスを酸化力の弱いCO2に変更したところ、低温領域で単相のInN薄膜の合成が確認できた。
2.直接窒化法を用いたInN単結晶バルクの作製を試みるため、アンモニア分圧が上げられる高圧密閉容器に酸化性原料を加えたアモノサーマル法について検討した。本年度は合成が容易な窒化銅単結晶の育成について試みた。酸化性原料として硝酸銅塩を選択しCu粉末に加えることで単相の窒化銅単結晶が合成されることが分かった。

  • 研究成果

    (4件)

すべて 2020 その他

すべて 国際共同研究 (1件) 雑誌論文 (3件)

  • [国際共同研究] カリフォルニア大学サンディエゴ校(米国)

    • 国名
      米国
    • 外国機関名
      カリフォルニア大学サンディエゴ校
  • [雑誌論文] Hydrogen-Defect Termination in SnO for p-Channel TFTs2020

    • 著者名/発表者名
      Lee Alex W.、Le Dong、Matsuzaki Kosuke、Nomura Kenji
    • 雑誌名

      ACS Applied Electronic Materials

      巻: 2 ページ: 1162~1168

    • DOI

      10.1021/acsaelm.0c00149

  • [雑誌論文] Resistive switching memory effects in p-type hydrogen-treated CuO nanowire2020

    • 著者名/発表者名
      Huang Chi-Hsin、Tang Yalun、Matsuzaki Kosuke、Nomura Kenji
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters

      巻: 117 ページ: 043502~043502

    • DOI

      10.1063/5.0010839

  • [雑誌論文] Back-Channel Defect Termination by Sulfur for p-Channel Cu2O Thin-Film Transistors2020

    • 著者名/発表者名
      Chang Hsuan、Huang Chi-Hsin、Matsuzaki Kosuke、Nomura Kenji
    • 雑誌名

      ACS Applied Materials & Interfaces

      巻: 12 ページ: 51581~51588

    • DOI

      10.1021/acsami.0c11534

URL: 

公開日: 2021-12-27  

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