極限高純度めっきプロセスによるＣｕ配線ナノ構造制御と次世代ナノＬＳＩへの展開

2013 年度 研究進捗評価(検証)

• 研究課題/領域番号: 20226014
• 研究種目: 基盤研究(S)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 構造・機能材料
• 研究機関: 茨城大学
• 研究代表者: 大貫 仁 茨城大学, 工学部, 教授 (70315612)
• 研究分担者: 三村 耕司 東北大学, 多元物質科学研究所, 准教授 (00091752) ; 石川 信博 独立行政法人物質・材料研究機構, 主任研究員 (00370312) ; 近藤 和夫 大阪府立大学, 工学研究科, 教授 (50250478) ; 稲見 隆 茨城大学, 工学部, 講師 (20091853) ; 長南 安紀 秋田県立大学, システム科学技術学部, 助教 (30363740) ; 伊藤 真二 独立行政法人物質・材料研究機構, 主任研究員 (50370317) ; 打越 雅仁 東北大学, 多元物質科学研究所, 助教 (60447191) ; 太田 弘道 茨城大学, 工学部, 教授 (70168946) ; 永野 隆敏 茨城大学, 工学部, 講師 (70343621) ; 木村 隆 独立行政法人物質・材料研究機構, 主任研究員 (70370319) ; 篠嶋 妥 茨城大学, 工学部, 教授 (80187137) ; 青山 隆 秋田県立大学, システム科学技術学部, 教授 (80363737) ; 田代 優 茨城大学, 工学部, 講師 (90272111) ; 一色 実 東北大学, 多元物質科学研究所, 教授 (20111247)
• 研究期間 (年度): 2008 – 2012

評価記号

検証結果 (区分)

A