研究課題
基盤研究(A)
シリコン基板上へ形成した陽極酸化アルミナ・ナノホール配列を用いて、平方インチ当たりの密度200ギガから2.5テラの範囲の磁性体ナノロッド配列形成に成功した。ナノロッド最少直径は10nmであり、室温での保磁力は2.0kOeである。また、電子ビーム描画とエッチング、さらに陽極酸化自己組織化を組み合わせるトップダウンとボトムアップ融合により、ナノホール規則配列周期の縮小化に成功し、超高密度磁気記録媒体形成への指針を与えた。
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Jpn.J.Appl.Phys. (to be published)
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