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2010 年度 実績報告書

スピンチャンネルから量子ドットへのスピンブロッケードとその量子ビットへの応用

研究課題

研究課題/領域番号 20241033
研究機関北海道大学

研究代表者

陽 完治  北海道大学, 量子集積エレクトロニクス研究センター, 教授 (60220539)

研究分担者 中里 弘道  早稲田大学, 理工学術院, 教授 (00180266)
キーワードスピン / 量子ドット / スピントランジスタ / インジウム砒素 / スピン軌道相互作用 / スピンブロッケード / 量子もつれ / 量子計算機
研究概要

本研究は量子ドット/スピンチャンネル系によるスピンブロッケードを用いて最終的に量子ビットへの応用に道を開くことを目指している。具体的には「スピン注入および高効率スピン源開発」、「チャンネル電子のスピン制御」、「積層量子ドットへのスピンブロッケードと量子もつれの検証」の課題に分けて取り組んだ。インジウム砒素系化合物半導体と鉄電極界面における界面反応により生成される化合物がスピン注入効率をブロックしていることを界面の相図を調べることにより探索した。鉄系のスピン源を用いて観測されたインジウム砒素材料系スピントランジスタの電流振動の測定結果が理論計算とよく一致していることを確認した。金コロイドを用いるインジウム砒素ナノワイヤの結晶成長の最適化を応用してナノワイヤスピントランジスタを作製し、スピン軌道相互作用に起因すると思われる電流変調を観測した。量子ドットを集積したスピントランジスタ構造の量子計算機デバイスを作製するにはスピン注入源のスピン偏極率のいかに高いものを用いることができるかで量子も連れ状態の検証にどのように影響するのかを理論的に予測した。その結果スピン注入効率が最大40%(実績37%)のFe/インジウム砒素による強磁性/半導体ハイブリッド系では、スピンチャンネル/量子ドット系による量子もつれの実証はむずかしいこと、60%以上のスピン注入効率では有意差が見られ、80%程度のスピン偏極率があれば、明瞭に量子もつれが観測できることを理論的に予測できた。今後、本量子ドット/スピンチャンネル系による量子計算の実現のためにはスピン源としては40%程度のスピン偏極率を持つ鉄、コバルト、ニッケルのような単元素強磁性体では不十分であり高いスピン偏極率が期待されるホイスラー合金のようなハーフメタルで60%-80%が実現できることが望ましいことが分かった。

  • 研究成果

    (21件)

すべて 2011 2010 その他

すべて 雑誌論文 (9件) (うち査読あり 9件) 学会発表 (11件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] Growth rate enhancement of InAs nanowire by molecular beam epitaxy2011

    • 著者名/発表者名
      J.Bubesh Babu, Kanji Yoh
    • 雑誌名

      J.Crystal Growth

      巻: 322 ページ: 10-14

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Fabrication of p-n-p graphene structure and observation of current oscillation2011

    • 著者名/発表者名
      Keita Konishi, Kanji Yoh
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys

      巻: 50 ページ: 06GF13

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Thermal stability of Pd Gate in Pseudomorphic InGaAs Heterostructures2011

    • 著者名/発表者名
      Tomotsugu Ishikura, Kanji Yoh
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys

      巻: 50 ページ: 06GF19

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Proposal of Graphene Bandgap Control by Hexagonal Network Formation2011

    • 著者名/発表者名
      Liumin Zou, Keita Konishi, Kanji Yoh
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys

      巻: 50 ページ: 06GF14

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effect of strain on the Dresselhaus effect of InAs-based heterostructures2011

    • 著者名/発表者名
      Takashi Matsuda, Kanji Yoh
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys.

      巻: 323 ページ: 52-55

    • 査読あり
  • [雑誌論文] SiC上のエピタキシャルグラフェンの成長と電子輸送特性2010

    • 著者名/発表者名
      陽完治、小西敬太
    • 雑誌名

      日本結晶成長学会誌

      巻: Vol.37, No.3 ページ: 214-219

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Transport characteristics of a single-layer graphene field-effect transistor grown on 4H-silicon carbide2010

    • 著者名/発表者名
      Keita Konishi, Kanji Yoh
    • 雑誌名

      Physica E

      巻: 42 ページ: 2792-2795

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Possible Sign Reversal of Rashba Coefficient in InAs-based Heterostructures2010

    • 著者名/発表者名
      Takashi Matsuda, Kanji Yoh
    • 雑誌名

      Physica E

      巻: 50 ページ: 979-983

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Evolution of pyramid morphology during InAs(001) homoepitaxy2010

    • 著者名/発表者名
      J.Bubesh Babu, Kanji Yoh
    • 雑誌名

      Appl.Phys.Lett.

      巻: 97 ページ: 072102

    • 査読あり
  • [学会発表] InAsナノワイヤスピントランジスタの作製プロセス2011

    • 著者名/発表者名
      崔志欣、石倉丈継、鈴木健司、小西敬太、J.バベシュ、陽完治
    • 学会等名
      第58回応用物理学会関係連合講演会
    • 発表場所
      神奈川工科大学(神奈川県、厚木市)
    • 年月日
      20110324-20110327
  • [学会発表] グラフェンネットワークによるバンドギャップの制御(2)2011

    • 著者名/発表者名
      鄒柳民, 閻子威, 小西敬太, 陽完治
    • 学会等名
      第58回応用物理学会関係連合講演会
    • 発表場所
      神奈川工科大学(神奈川県、厚木市)
    • 年月日
      20110324-20110327
  • [学会発表] グラフェン中のp-n構造における電子の屈折について2011

    • 著者名/発表者名
      小西敬太、鄒柳民、閻子威、陽完治
    • 学会等名
      第58回応用物理学会関係連合講演会
    • 発表場所
      神奈川工科大学(神奈川県、厚木市)
    • 年月日
      20110324-20110327
  • [学会発表] GaAs基板A面上のInAsナノワイヤを用いたスピンダイオードの作製2011

    • 著者名/発表者名
      鈴木健司, 崔志欣, 石倉丈継、J.バベシュバブ、陽完治
    • 学会等名
      第58回応用物理学会関係連合講演会
    • 発表場所
      神奈川工科大学(神奈川県、厚木市)
    • 年月日
      20110324-20110327
  • [学会発表] Electrical Characterization of Pd Gate InAs-based Heterostructure2010

    • 著者名/発表者名
      Tomotsugu Isikura, Zhixin Cui, Takashi Matsuda, Kanji Yoh
    • 学会等名
      Micoprocess and Nanostructure Conference
    • 発表場所
      Rihga Royal Hotel, Kokura, Japan
    • 年月日
      20101109-20101112
  • [学会発表] Proposal of Graphene Bandgap Control by Network Formation2010

    • 著者名/発表者名
      Liumin Zou, Keita Konishi, Kanji Yoh
    • 学会等名
      Micoprocess and Nanostructure Conference
    • 発表場所
      Rihga Royal Hotel, Kokura, Japan
    • 年月日
      20101109-20101112
  • [学会発表] Fabrication of p-n-p graphene structure and observation of current oscillation2010

    • 著者名/発表者名
      Keita Konishi, Kanji Yoh
    • 学会等名
      Micoprocess and Nanostructure Conference
    • 発表場所
      Rihga Royal Hotel, Kokura, Japan
    • 年月日
      20101109-20101112
  • [学会発表] パラジウム・ゲートInAs素系HEMT電気特性評価2010

    • 著者名/発表者名
      崔志欣, 石倉丈継, 松田喬, 陽完治
    • 学会等名
      第71回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      長崎大学(長崎県、長崎市)
    • 年月日
      20100914-20100917
  • [学会発表] グラフェンネットワークによるバンドギャップ制御の提案2010

    • 著者名/発表者名
      鄒柳民, 小西敬太, 陽完治
    • 学会等名
      第71回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      長崎大学(長崎県、長崎市)
    • 年月日
      20100914-20100917
  • [学会発表] グラフェンにおける負の屈折率実験2010

    • 著者名/発表者名
      小西敬太, 鄒柳民, 陽完治
    • 学会等名
      第71回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      長崎大学(長崎県、長崎市)
    • 年月日
      20100914-20100917
  • [学会発表] Fabrication of Spin Transistors Based on InAs Nanowire2010

    • 著者名/発表者名
      Zhixin Cui, Keita Konishi, Tomotsugu Ishikura, Bubesh Babu, Kanji Yoh
    • 学会等名
      Micoprocess and Nanostructure Conference
    • 発表場所
      Rihga Royal Hotel, Kokura, Japan
    • 年月日
      2010-11-09
  • [備考]

    • URL

      http://www.rciqe.hokudai.ac.jp/spin/yoh/index.html

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公開日: 2013-06-26  

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