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2009 年度 実績報告書

1次元Si(110)表面構造を利用したナノドット規則配列構造の創製とストレス制御

研究課題

研究課題/領域番号 20310064
研究機関独立行政法人日本原子力研究開発機構

研究代表者

朝岡 秀人  独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究主幹 (40370340)

研究分担者 山田 洋一  筑波大学, 大学院・数理物質科学研究科, 助教 (20435598)
山崎 竜也  独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究員 (30465992)
社本 真一  独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究主席 (90235698)
キーワード結晶成長 / 表面・界面物性 / ナノ材料
研究概要

半導体デバイス開発の現場では、低次元系量子構造を実現する自己組織化と、そのへテロ接合に起因するストレスの制御技術の確立が、特性向上のためのボトルネックになっている。研究申請者らは、表面再構成構造がダブルドメイン化していたSi(110)面に対して、直流加熱電流の方向に依存する表面エレクトロマイグレーション効果を活用し、1次元構造を有するSi(110)表面が形成されることを見出した。このSi(110)面をテンプレートとしてナノドット・ナノワイヤーの配列構造を実現するとともに、ナノ構造の成長カイネティクスを解明することによりストレスの制御プロセスを確立し、高精度に制御された新規量子デバイス創成への指針を得ることを目的とする。21年度においては、ナノドット・ナノワイヤーの成長過程におけるSi(110)面の異方的ストレスと、ナノクラスターの配列制御との関連を解明するため、ストレス測定用の通電式基板加熱機構を開発し、既存のストレス測定と,RHEED測定との複合解析装置に設置した。その上で、表面エレクトロマイグレーション効果による直流加熱電流の方向依存性、加熱温度のS1(110)再構成表面の原子構造評価を行った。

  • 研究成果

    (11件)

すべて 2010 2009

すべて 雑誌論文 (6件) (うち査読あり 6件) 学会発表 (5件)

  • [雑誌論文] X-ray photoelectron and X-ray absorption spectroscopic study on b-FeSi_2 thin films fabricated by ion beam sputter deposition2010

    • 著者名/発表者名
      F.Esaka, et al.
    • 雑誌名

      Appi.Surf.Sci. 256

      ページ: 3155-3159

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Spherical Nanoparticle Effects on Atomic Pair Distribution Function2010

    • 著者名/発表者名
      Shin-ichi Shamoto
    • 雑誌名

      J.Phys.Soc.Jpn. 79

      ページ: 034601-1-4

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Evaluation for the configurational and electronic state of SO_3 adsorbed on Pt surface2009

    • 著者名/発表者名
      C.Suzuki, et al.
    • 雑誌名

      Appl.Surf.Sci. 256

      ページ: 862-869

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Associative desorption of adsorbed oxygen promoted by translational energy of incident O_2 molecules2009

    • 著者名/発表者名
      Y.Yokoyama, et al.
    • 雑誌名

      Surf.Sci 603

      ページ: 2845-2848

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Two-dimensional Spin Density Wave State in LaFeAsO2009

    • 著者名/発表者名
      M.Ishikado, et al.
    • 雑誌名

      J.Phys.Soc.Jpn. 78

      ページ: 043705-1-4

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Growth of Single Crystal PrFeAsO_<1-y> and its Characterization2009

    • 著者名/発表者名
      M.Ishikado, et al.
    • 雑誌名

      Physica C 469

      ページ: 901-904

    • 査読あり
  • [学会発表] 終端されたSi(110)-16×2単一ドメイン表面上の有機分子薄膜作製2010

    • 著者名/発表者名
      横山有太,山田洋一,朝岡秀人,佐々木正洋
    • 学会等名
      第57回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      神奈川
    • 年月日
      2010-03-18
  • [学会発表] 中性子反射率測定によるSr/H-Si(111)ヘテロエピ界面構造の解析2009

    • 著者名/発表者名
      山崎竜也, et al.
    • 学会等名
      第29回表面科学講演大会
    • 発表場所
      東京
    • 年月日
      20091027-20091029
  • [学会発表] 格子不整合Sr/H-Si(111)ヘテロエピ界面の中性子反射率測定2009

    • 著者名/発表者名
      山崎竜也, et al.
    • 学会等名
      第70回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      富山
    • 年月日
      20090908-20090911
  • [学会発表] Magnetic excitation spectrum in LaFeAsO_<1-x>F_x system2009

    • 著者名/発表者名
      S.Shamoto
    • 学会等名
      ICC-IMR workshop "Physics on Transition Metal Based Superconductors"
    • 発表場所
      Miyagi
    • 年月日
      20090624-20090626
  • [学会発表] Two-dimensional Spin Density Wave State in LaFeAsO2009

    • 著者名/発表者名
      S.Shamoto
    • 学会等名
      International Conference on Neutron Scattering 2009
    • 発表場所
      Tennessee
    • 年月日
      20090503-20090507

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公開日: 2011-06-16   更新日: 2016-04-21  

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