| 研究課題/領域番号 |
20340081
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
物性Ⅰ
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| 研究機関 | 独立行政法人理化学研究所 |
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研究代表者 |
玉作 賢治 独立行政法人理化学研究所, 石川X線干渉光学研究室, 専任研究員 (30300883)
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| 研究分担者 |
澤田 桂 独立行政法人理化学研究所, 石川X線干渉光学研究室, 基礎特別研究員 (40462692)
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| 研究期間 (年度) |
2008 – 2010
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| キーワード | X線 / 非線形光学 / パラメトリック変換 / ファノ効果 / 局所光学応答 |
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| 研究概要 |
X線領域での非線形光学現象であるX線から光学領域へのパラメトリック下方変換を理論的・実験的に研究した。共鳴現象を利用して、パラメトリック下方変換が光学的なファノ効果として観測されることを示し、2次の非線形感受率を実験的に求める式を導き出した。また、2次の非線形感受率が光学領域の局所光学応答を反映していることを理論的に示し、ダイヤモンドを用いて203Åでの光学応答を0.54Å分解能で可視化することに成功した。
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