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2010 年度 研究成果報告書

熱ナノインプリント対応金属加工用レジスト高分子薄膜の究明

研究課題

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研究課題/領域番号 20350103
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 高分子・繊維材料
研究機関東北大学

研究代表者

中川 勝  東北大学, 多元物質科学研究所, 教授 (10293052)

連携研究者 松井 真二  兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 教授 (00312306)
研究協力者 久保 祥一  東北大学, 多元物質科学研究所, 助教 (20514863)
研究期間 (年度) 2008 – 2010
キーワード高分子構造・物性 / 微細加工 / ナノ材料
研究概要

金属薄膜と高分子レジスト薄膜との界面を光反応性単分子膜の化学結合形成により密着させることを特徴とする界面化学結合型熱ナノインプリントリソグラフィの学理を目的とし、金属薄膜の湿式加工に適する熱可塑性高分子レジスト薄膜の究明を行った。光反応性基と効率よく結合形成する高分子の種類、ウエットエッチングと電解めっきに適した高分子の種類と最適分子量の存在、分子量に依存した高分子薄膜への水溶液の透過現象、高分子薄膜の加熱加圧成型の均一性を確認できる蛍光レジストの有効性を論証した。

  • 研究成果

    (18件)

すべて 2011 2010 2009 2008 その他

すべて 雑誌論文 (8件) (うち査読あり 8件) 学会発表 (6件) 備考 (1件) 産業財産権 (3件)

  • [雑誌論文]2011

    • 著者名/発表者名
      Shoichi Kubo, Yuko Sato, Yoshihiko Hirai, Masaru Nakagawa
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys.

      巻: (in press)

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Reactive-monolayer-assisted thermal nanoimprint lithography with benzo-phenone-containing trimethoxysilane derivative for patterning thin chromium and copper films2010

    • 著者名/発表者名
      Shoichi Kubo, Tomoyuki Ohtake, Eui-Chul Kang, Masaru Nakagawa
    • 雑誌名

      J. Photopolym. Sci. Technol.

      巻: 23 ページ: 83-86

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Resist properties of thin poly(methyl methacrylate)and poly(styrene)films patterned by thermal nanoimprint lithography2010

    • 著者名/発表者名
      Koichi Nagase, Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 49 ページ: 06GL05-1-06GL05-5

    • 査読あり
  • [雑誌論文] ポリ(メタクリル酸メチル)へのベンゾフェノン誘導体の光グラフト反応2009

    • 著者名/発表者名
      大嶽知之, 高岡利明, 中川勝
    • 雑誌名

      高分子論文集

      巻: 66 ページ: 111-117

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Thermal nanoimprint of a poly(styrene)and poly(4-vinylpyridine)double-layer thin film and visualization determination of its internal structure by transmission electron microscopy2009

    • 著者名/発表者名
      Masaru Nakagawa, Noriyoshi Kamata, Tomokazu Iyoda, Shinji Matsui
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appy. Phys.

      巻: 48 ページ: 06FH12-1-06FH12-6

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Photo-reactive chemisorbed monolayer suppressing polymer dewetting in thermal nanoimprint lithography2009

    • 著者名/発表者名
      Hirokazu Oda, Tomoyuki Ohtake, Toshiaki Takaoka, Masaru Nakagawa
    • 雑誌名

      Langmuir

      巻: 25 ページ: 6604-6606

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Photo-induced graft reactions of 4-methoxybenzophenone with thermoplastic polymers designed for reactive monolayer-assisted thermal nanoimprint lithography2009

    • 著者名/発表者名
      Tomoyuki Ohtake, Hirokazu Oda, Toshiaki Takaoka, Masaru Nakagawa
    • 雑誌名

      J. Photopolym. Sci. Technol.

      巻: 22 ページ: 205-211

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Optical monitoring of a poly(styrene)residual layer on a photocrosslinkable monolayer in thermal nanoimprint2009

    • 著者名/発表者名
      Koichi Nagase, Shoichi Kubo, Tomoyuki Ohtake, Toshiaki Takaoka, Masaru Nakagawa
    • 雑誌名

      J. Photopolym. Sci. Technol

      巻: 22 ページ: 200-204

    • 査読あり
  • [学会発表] Reactive-monolayer-assisted thermal nanoimprint lithography for fine metal patterning2010

    • 著者名/発表者名
      Shoichi Kubo, 他2名
    • 学会等名
      The 9th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT 2010)
    • 発表場所
      Oresund & Copenhagen(デンマーク)
    • 年月日
      2010-10-14
  • [学会発表] 界面化学結合型熱ナノインプリントリソグラフィによる高分子薄膜の成型と金属薄膜の微細加工2010

    • 著者名/発表者名
      中川勝
    • 学会等名
      第18回ポリマー材料フォーラム
    • 発表場所
      三井化学グループ横浜研究センター(神奈川県)
    • 年月日
      2010-06-20
  • [学会発表] 界面化学結合型熱ナノインプリントリソグラフィ(IV)-金の電解析出に対するレジストライン幅の影響-2010

    • 著者名/発表者名
      永瀬康一, 他4名
    • 学会等名
      第59回高分子年次大会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜(神奈川県)
    • 年月日
      2010-05-28
  • [学会発表] 界面化学結合型熱ナノインプリントリソグラフィによる高分子薄膜の成型と金属薄膜の微細加工2009

    • 著者名/発表者名
      中川勝
    • 学会等名
      第18回ポリマー材料フォーラム
    • 発表場所
      船堀(東京都)
    • 年月日
      2009-11-26
  • [学会発表] 熱ナノインプリント-電解めっき法によるマイクロ金バンプの作製2009

    • 著者名/発表者名
      永瀬康一, 他3名
    • 学会等名
      第56回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      筑波大学(茨城県)
    • 年月日
      2009-03-30
  • [学会発表] Photo-induced chemisorption of poly(styrene)resist suppressing partial filling in thermal nanoimprint lithography2008

    • 著者名/発表者名
      Hirokazu Oda, 他3名
    • 学会等名
      7th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT08)
    • 発表場所
      京都国際会議場(京都府)
    • 年月日
      2008-10-14
  • [備考]

    • URL

      http://www.tagen.tohoku.ac.jp/labo/nakagawa/index-j.html

  • [産業財産権] 透明導電基板の製造方法、及び透明導電基板2009

    • 発明者名
      川島政彦, 中川勝, 永瀬康一, 大嶽知之, 高岡利明
    • 権利者名
      旭化成イーマテリアルズ株式会社, 国立大学法人東北大学, 日油株式会社
    • 産業財産権番号
      特許権、特願2009-200724
    • 取得年月日
      2009-08-31
  • [産業財産権] 蛍光レジスト組成物および、その用途2009

    • 発明者名
      大嶽知之, 中川勝, 川島政彦, 高岡利明, 久保祥一
    • 権利者名
      日油株式会社, 国立大学法人東北大学, 旭化成イーマテリアルズ株式会社
    • 産業財産権番号
      特許権、特願2009-200307
    • 取得年月日
      2009-08-31
  • [産業財産権] 金属配線基板、およびその製法2009

    • 発明者名
      中川勝, 永瀬康一, 大嶽知之, 高岡利明
    • 権利者名
      日油株式会社, 国立大学法人東北大学
    • 産業財産権番号
      特許権、特願2009-026938
    • 取得年月日
      2009-02-09

URL: 

公開日: 2013-07-31  

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