| 研究課題/領域番号 |
20360024
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| 研究機関 | 独立行政法人日本原子力研究開発機構 |
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研究代表者 |
寺岡 有殿 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究主幹 (10343922)
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| 研究分担者 |
吉越 章隆 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究副主幹 (00283490)
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| キーワード | 軟X線放射光 / 放射光光電子分光 / 超音速分子ビーム / 高速原子分子ビーム / アルミニウム / シリコン / 窒化 / 酸化 |
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| 研究概要 |
1研究代表者(寺岡有殿)は、自身が立案した研究計画に基いて研究を管理・推進して、超音速配向分子ビーム装置の開発、高速中性原子・分子ビーム装置の活用、超高速光電子分光システムの改良を主導した。研究分担者(吉越章隆)はそれらの開発・改良を研究代表者と共同して行い、装置を活用したアルミニウム酸化膜形成実験等を行った。さらに、東北大学通研、東北大学多元研、京都大学理学部、大阪大学理学部、大阪大学工学部、神戸大学工学部等と共同研究(シリコンや炭化シリコンの酸化反応ダイナミクス、ダイヤモンドライクカーボンや窒化ゲルマニクムの光電子分光分析など)を実施して多数の成果を得た。
2超音速配向分子ビーム装置における連続噴射型超音速分子ビーム源の開発:超音速配向分子ビーム装置では、平成19年度までに超音速NO分子ビームの状態選択と配向制御を実現していたが、分子ビーム源がパルス型であるために試料表面に供給する分子の量が不足する難点があった。そこで連続噴射型の超音速分子ビーム源を新たに開発・製作して分子ビームを大強度化した。
3高速中性原子・分子ビーム装置の活用:既存の高速中性原子・分子ビーム装置を用いて数keV領域での高速窒素原子・分子イオンビームを核融合炉内壁用材料として期待されるタングステン表面に照射して、放射光を用いて深さ方向の窒素原子分布とその化学結合状態を分析した。
4超高速光電子分光システムの改良:64チャンネル光電子検出器を用いた光電子分光の超高速化では、試作システムを使用しながら総合的な試験を行い、ハードウェアの改造、さらに、制御ソフトウェアの操作性を改善するための改良に向けて問題点を抽出した。
5成果発表:共同研究も含めた研究開発成果を国際学会(19件;国内開催の国際会議も含む)、国内学会(21件)で発表した。さらに国内外の専門誌に論文(14件)を発表した。
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