| 研究課題/領域番号 |
20360027
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
応用光学・量子光工学
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
志村 努 東京大学, 生産技術研究所, 教授 (90196543)
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| 研究分担者 |
黒田 和男 東京大学, 生産技術研究所, 教授 (10107394)
吉江 尚子 東京大学, 生産技術研究所, 教授 (20224678)
佐藤 琢哉 東京大学, 生産技術研究所, 助教 (40451885)
藤村 隆史 東京大学, 生産技術研究所, 助教 (50361647)
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| 研究期間 (年度) |
2008 – 2010
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| キーワード | ホログラフィックメモリー / 書き換え可能型記録材料 / 可逆重合反応 / 屈折率変化 / フォトポリマー |
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| 研究概要 |
温度履歴により異なる結晶構造をとるポリマーを用い、光照射による温度履歴を用いて屈折率変化を生じさせた。分光エリプソメトリーにより2つの異なる結晶状態の屈折率を、干渉計により局所的な屈折率変化を測定した。また、ポリマーの両末端にクマリンを付け、光照射に伴うクマリンの2量化によるポリマー鎖の形成とその逆反応により、可逆的に吸収スペクトルと屈折率を変化させた。
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