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2009 年度 実績報告書

シリサイド半導体を用いた資源・環境リスク対応フォトダイオードの開発

研究課題

研究課題/領域番号 20360134
研究機関茨城大学

研究代表者

鵜殿 治彦  茨城大学, 工学部, 准教授 (10282279)

研究分担者 木村 孝之  茨城大学, 工学部, 准教授 (50302328)
山田 洋一  筑波大学, 大学院・数理物質科学研究科, 助教 (20435598)
山口 憲司  (独)日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究主幹 (50210357)
キーワード半導体シリサイド / 赤外受光素子 / Mg_2Si / ショットキー接合 / β-FeSi_2
研究概要

本研究は、水銀、鉛、ヒ素、アンチモンなどの有害性の高い重金属やインジウムなどの稀少金属を構成元素に含まないシリサイド系半導体を用いて、資源・環境リスク対応型の赤外受光素子を開発することを最終目的としている。光通信や夜間モニタリングなどの分野で利用が拡大してきている赤外検出器は、GaAs,InGaAs,InSb,PbS,PbSe,HgCdTe(MCT)など稀少金属や有害金属が構成元素に使われており、その代替え材料の研究は積極的に行われてこなかった経緯がある。
本研究では、クラーク数が大きく、資源量が豊富な元素で構成されるβ-FeSi_2とMg_2Si系材料を用いて波長1.5-5μm域で使用できる赤外受光素子の開発を目的に研究を進めている。本年度はβ-FeSi_2のホモエピタキシャル成長とMg_2Si系のショットキー接合を中心に研究を進め以下の成果を得た。
○基板の前処理方法を見直し、平坦生が高いβ-FeSi_2基板表面を再現性良く得られるようになった。
○β-FeSi_2基板表面では、Siが主に自然酸化するため、超高真空中で熱処理で自然酸化膜を除去すると表面で局所的にSiが不足し、これが表面に異相を析出させる可能性が高いことがわかった。
○分子線エピタキシーの際のFeとSiの供給比を、Fe:Si=1.0:2.0の比率で制御することで平坦生が高いホモエピタキシャル膜を得ることに成功した。
○n形Mg2Si単結晶基板と金属電極との関係を調べ、Auでショットキー接合が得られる事を明らかにした。

  • 研究成果

    (16件)

すべて 2010 2009 その他

すべて 雑誌論文 (3件) (うち査読あり 3件) 学会発表 (12件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] β-FeSi2 thin films fabricated by ion beam sputter deposition2010

    • 著者名/発表者名
      F.Esaka, H.Yamamoto, N, Nakabayashi, Y.Yamada, M.Sasase, K.Yamaguchi, 他3名
    • 雑誌名

      Appl.Surf.Sci 256

      ページ: 3155-3159

    • 査読あり
  • [雑誌論文] The local structure of α-FeSi2 under high pressure2009

    • 著者名/発表者名
      Y.Mori, H.Nakano, G.Sakane, G.Aquilanti, H.Udono, K.Takarabe
    • 雑誌名

      phys.stat.sol.(b) 246

      ページ: 541-543

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Fluorescence EXAFS study of residual Ga in β-FeSi2 grown from Ga solvent2009

    • 著者名/発表者名
      H Yamada, M Tabuchi, Y Takedal, H Udono
    • 雑誌名

      Journal of Physics : Conference Series 190

      ページ: 012069

    • 査読あり
  • [学会発表] MnSi_<1.7>結晶の溶液成長と評価2010

    • 著者名/発表者名
      鵜殿治彦, 中森一樹
    • 学会等名
      第57回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東海大学
    • 年月日
      2010-03-19
  • [学会発表] β-FeSi_2エピタキシャル膜におけるPRスペクトルの成長方位依存性2010

    • 著者名/発表者名
      野田慶一, 寺井慶和, 米田圭祐, 三浦直行, 鵜殿治彦, 藤原康文
    • 学会等名
      第57回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東海大学
    • 年月日
      2010-03-19
  • [学会発表] Mg_2Siへのショットキー電極の作製2010

    • 著者名/発表者名
      関野和幸, 御殿谷真, 鵜殿治彦, 山田洋一
    • 学会等名
      第57回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東海大学
    • 年月日
      2010-03-19
  • [学会発表] β-FeSi_2溶液成長における温度変調効果と成長過程観察2010

    • 著者名/発表者名
      氏家裕介, 中森一樹, 増子眞佑, 鵜殿治彦
    • 学会等名
      第57回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東海大学
    • 年月日
      2010-03-18
  • [学会発表] 超高真空中熱処理によるβ-FeSi_2基板表面構造と成膜への影響2010

    • 著者名/発表者名
      松村精大, 落合城仁, 鵜殿治彦, 江坂文孝, 山口憲司, 山本博之, 北條喜一
    • 学会等名
      第57回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東海大学
    • 年月日
      2010-03-18
  • [学会発表] シリサイド半導体が拓く資源・環境リスク対応機能デバイス2010

    • 著者名/発表者名
      鵜殿治彦
    • 学会等名
      第2回岡山理科大学グリーン元素科学シンポジュウム
    • 発表場所
      岡山理科大学
    • 年月日
      2010-02-12
  • [学会発表] シリサイドバルク単結晶研究の現状2009

    • 著者名/発表者名
      鵜殿治彦
    • 学会等名
      第13回シリサイド系半導体研究会
    • 発表場所
      富山県総合福祉会館
    • 年月日
      2009-09-12
  • [学会発表] β-FeSi2表面構造の第一原理計算による電子状態解析2009

    • 著者名/発表者名
      谷本悟, 永野隆敏, 鵜殿治彦
    • 学会等名
      第70回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      富山大学
    • 年月日
      2009-09-10
  • [学会発表] 超高真空中熱処理によるβ-FeSi_2単結晶基板の表面モフォロジー変化2009

    • 著者名/発表者名
      落合城仁, 毛偉, 関野和幸, 鵜殿治彦, 江坂文孝
    • 学会等名
      第70回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      富山大学
    • 年月日
      2009-09-10
  • [学会発表] 高純度Mg原料を用いたMg_2Sn単結晶の成長と電気的特性2009

    • 著者名/発表者名
      御殿谷真, 串田圭祐, 鵜殿治彦
    • 学会等名
      第70回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      富山大学
    • 年月日
      2009-09-10
  • [学会発表] β-FeSi_2中のB及びZn不純物の電気特性への影響2009

    • 著者名/発表者名
      中森一樹, 増子眞佑, 鵜殿治彦
    • 学会等名
      第70回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      富山大学
    • 年月日
      2009-09-10
  • [学会発表] P-type impurity-doping and thermoelectric property of melt grown Mg2Sn single crystal2009

    • 著者名/発表者名
      H.Udono, K.Kushida, H.Koguchi, M.Midonoya
    • 学会等名
      International Conference on Thermoelectrics2009
    • 発表場所
      Freiburg
    • 年月日
      2009-07-27
  • [備考]

    • URL

      http://info.ibaraki.ac.jp/scripts/websearch/index.htm

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公開日: 2011-06-16   更新日: 2016-04-21  

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