研究課題
基盤研究(B)
電解質溶液と超臨界二酸化炭素のエマルジョンを形成して電気めっきを行うことによりSNP技術を開発し、その技術をナノ粒子工学と融合することにより新規な半導体配線技術、発展型SNP(M-SNP)法に発展させた。本研究では、M-SNPの電気化学反応および金属の核発生・成長の基礎を解明することを目的とし、細密高段差被覆性の結晶学的な解析を行った。この研究により、直径60nm、高アスペクト比のホールに銅を埋め込むことに成功し、埋め込まれた銅が欠陥なしであり単結晶であることが明らかにした。
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