研究課題
基盤研究(B)
液中プラズマ化学蒸着法における膜形成の原理を,基板と液中プラズマ泡の相互作用をハイスピードカメラで観察することによって解明し,均質な膜形成のための条件を提示した.ダイヤモンドや,炭化珪素,窒化アルミニウムなどの化合物半導体を液中プラズマを用いて成膜するための化学反応の制御原理を解明した.液中プラズマ中では大きい電気陰性度の原子と小さいイオン化エネルギーの原子が優先的に化学反応することがわかった.
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Diamond & Related Materials 19
ページ: 418-422
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 105
ページ: 113306-1-113306-4
http://www.me.ehime-u.ac.jp/labo/plasma/index.htm