研究課題
基盤研究(B)
一般に高分子薄膜は固体表面に溶液を塗布して形成されるが、極薄膜化、多層化、界面制御などに課題を持つ。そこで本研究では、真空中の固体表面に低分子を物理蒸着し、熱、電子線、紫外線等で反応を促進することで、制御性良く高純度の高分子薄膜を形成することを検討した。特に反応性官能基末端を有す自己組織化膜を形成した固体表面に低分子を蒸着することにより、無機固体材料と共有結合した安定な界面を有す高分子薄膜を成長させる表面開始蒸着重合の手法を新たに開拓した。
すべて 2011 2010 2009 2008 その他
すべて 雑誌論文 (6件) (うち査読あり 6件) 学会発表 (6件) 図書 (5件) 備考 (1件) 産業財産権 (2件)
Jpn.J.Appl.Phys. Vol.50, No.4
ページ: 04DK07-1-5
Jpn.J.Appl.Phys. Vol.50, No.1
ページ: 01BB01-1-5
Jpn.J.Appl.Phys. Vol.49, No.4
ページ: 04DK21-1-5
ページ: 01AE03-1-5
Thin Solid Films Vol.518, No.2
ページ: 703-706
Langmuir Vol.25, No.18
ページ: 10711-10718
http://www.tuat.ac.jp/~usuilab/