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2009 年度 実績報告書

二酸化炭素を利用する新規"超溌水性"表面処理技術の創出

研究課題

研究課題/領域番号 20510075
研究機関豊橋技術科学大学

研究代表者

吉田 絵里  豊橋技術科学大学, 工学部, 准教授 (60263175)

キーワード超臨界二酸化炭素 / 溌水性表面処理 / 自己組織化 / 高分子共重合体 / 光リビングラジカル重合 / 分子量制御
研究概要

環境にやさしく、かつ手法の安全性や簡便性を確保できる溌水性表面処理技術を創出することを目的として、下記の方法で研究を行った。
(1)超臨界CO2中での自己組織化に適合する高分子共重合体を設計し合成する。
(2)高分子共重合体の超臨界CO_2への溶解挙動を調べる。
(3)高分子共重合体が超臨界CO_2中で球状ミクロ粒子を形成する条件を、共重合体の溶解度、共重合体の組成比およびCO_2の圧力を用いて決定する。
超臨界CO_2中での自己組織化に適合する高分子共重合体として、ランダム共重合体とブロック共重合体がある。これまでの著者の研究成果から、ランダム共重合体の自己組織化よりもブロック共重合体のそれの方が、より粒径の小さなナノ粒子が得られることがわかっている。そこで、合成の手法の容易なランダム共重合体と合わせて、ブロック共重合体の合成を行った。さらに、昨年度までの研究成果から、分子量の制御された分子量分布の狭い高分子は、それから形成される微粒子の粒度分布も狭く、より溌水性の高い表面を構築できることが予想された。そこで、分子量を制御するラジカル重合法の確立も合わせて検討した。特に、環境に配慮した手法の利用を目的として、従来の熱による重合ではなく、光によるリビングラジカル重合法の確立を目指した。具体的には、抗酸化剤として広く用いられている安定ニトロキシルラジカルを分子量の制御剤として用いる光リビングラジカル重合を行った。光照射によるラジカル重合で分子量の厳密な制御が可能な重合法は、現在のところほとんど皆無といってよい。21年度は、光照射装置の不具合によって、この研究経費で購入予定だった装置の納品時期が遅れたために、光リビングラジカル重合法の確立や重合の詳細な検討までは行うことができなかったが、重合法を確立するための方向性を定めることができた。

  • 研究成果

    (15件)

すべて 2009 その他

すべて 雑誌論文 (6件) (うち査読あり 6件) 学会発表 (4件) 備考 (1件) 産業財産権 (4件)

  • [雑誌論文] Synthesis of poly(methyl methacrylate)-block-poly(tetrahydrofuran) by photo-living radical polymerization using a 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl macromediator2009

    • 著者名/発表者名
      Eri Yoshida
    • 雑誌名

      Colloid Polym.Sci.

      巻: 287 ページ: 1417-1424

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Control of micellization induced by disproportionation of 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl supported on side chains of a block copolymer2009

    • 著者名/発表者名
      Eri Yoshida
    • 雑誌名

      Colloid Polym.Sci.

      巻: 287 ページ: 1365-1368

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Reversible control of self-assembly of a diblock copolymer supporting Wittig reagent2009

    • 著者名/発表者名
      Eri Yoshida, Tomoko Naito
    • 雑誌名

      Colloid Polym.Sci.

      巻: 287 ページ: 1057-1063

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Reversible control of primary and secondary self-Assembly of poly(4-allyloxystyrene)-block-polystyrene2009

    • 著者名/発表者名
      Eri Yoshida, Satoshi Kuwayama
    • 雑誌名

      Res.Lett.Phys.Chem.

      巻: 146849 ページ: 1-5

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Micelle formation induced by photo-Claisen rearrangement of poly(4-allyloxystyrene)-block-polystyrene2009

    • 著者名/発表者名
      Eri Yoshida, Satoshi Kuwayama
    • 雑誌名

      Colloid Polym.Sci

      巻: 287 ページ: 789-793

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Photo-living radical polymerization of methyl methacrylate by 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl in the presence of a photo-acid generator2009

    • 著者名/発表者名
      Eri Yoshida
    • 雑誌名

      Colloid Polym.Sci

      巻: 287 ページ: 767-772

    • 査読あり
  • [学会発表] 光による高分子の1次構造および高次構造の制御-光リビングラジカル重合による分子量の制御と光反応による自己組織化の制御2009

    • 著者名/発表者名
      吉田絵里
    • 学会等名
      日本油化学会 界面科学実践講座2009
    • 発表場所
      名古屋市工業研究所
    • 年月日
      2009-12-04
  • [学会発表] 高分子ニトロキシルラジカルをメディエーターとする光リビングラジカル重合によるポリ(メタクリル酸メチル)-block-ポリ(テトラヒドロフラン)ジブロック共重合体の合成2009

    • 著者名/発表者名
      吉田絵里
    • 学会等名
      日本油化学会第48回年会
    • 発表場所
      名古屋工業大学
    • 年月日
      2009-09-12
  • [学会発表] アルコキシアミン付加体を開始剤とするメタクリル酸メチルの光リビングラジカル重合2009

    • 著者名/発表者名
      吉田絵里
    • 学会等名
      日本油化学会第48回年会
    • 発表場所
      名古屋工業大学
    • 年月日
      2009-09-12
  • [学会発表] ニトロキシルラジカルをメディエーターとする酢酸ビニルの光リビングラジカル重合2009

    • 著者名/発表者名
      吉田絵里
    • 学会等名
      日本油化学会第48回年会
    • 発表場所
      名古屋工業大学
    • 年月日
      2009-09-12
  • [備考]

    • URL

      http://www.tutms.tut.ac.jp/~eyoshida

  • [産業財産権] 微粒子及び製造方法2009

    • 発明者名
      吉田絵里, 田中千秋
    • 権利者名
      豊橋技術科学大学, (株)リコー
    • 産業財産権番号
      特許,特願2009-249363
    • 出願年月日
      2009-10-29
  • [産業財産権] ラジカル重合用組成物及びポリマーの製造方法2009

    • 発明者名
      吉田絵里, 田中千秋
    • 権利者名
      豊橋技術科学大学, (株)リコー
    • 産業財産権番号
      特許,特願2009-204342
    • 出願年月日
      2009-09-04
  • [産業財産権] 温度によって凝集状態の制御が可能な共重合体およびその製造方法2009

    • 発明者名
      吉田絵里, 田中千秋
    • 権利者名
      豊橋技術科学大学, (株)リコー
    • 産業財産権番号
      特許,特願2009-095941
    • 出願年月日
      2009-04-10
  • [産業財産権] ブロック共重合体およびその製造方法2009

    • 発明者名
      吉田絵里, 田中千秋
    • 権利者名
      豊橋技術科学大学, (株)リコー
    • 産業財産権番号
      特許,特願2009-020944
    • 出願年月日
      2009-01-30

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公開日: 2012-07-19  

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