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2009 年度 実績報告書

放射光時分割定在波法による強誘電体超薄膜の分極反転速度の直接測定

研究課題

研究課題/領域番号 20510113
研究機関(財)高輝度光科学研究センター

研究代表者

坂田 修身  (財)高輝度光科学研究センター, 利用研究促進部門, 主幹研究員 (40215629)

キーワード時分割X線回折 / 強誘電体超薄膜 / ナノ秒オーダー / 電気分極 / 格子歪 / 電歪定数 / 圧電定数 / 物性同時測定
研究概要

強誘電体超薄膜の分極反転速度の直接測定の準備として、パルス電場によって薄膜内で誘起される原子スケールの格子歪を検出するナノ秒オーダーの時分割X線回折測定と電気分極の高速測定を組み合わせた物性同時測定システムを開発した。強誘電体薄膜試料に実際に適用し、X線回折測定から格子歪、QVから分極Pを求め、薄膜の圧電定数と電歪定数とを決定した。
複合屈折レンズを用い数μmに集光した放射光パルス単色X線をナノ秒オーダー幅のパルス電圧が印加されている薄膜試料キャパシタ(構造Pt/410nm厚エピタキシャルBiFeO_3(001)/下部電極)に入射させた。今回のシステムでは最大電圧100V、最小パルス幅30nsを利用可能である。残留分極+Prの状態に処理してから、ユニポーラの電場を印加した。薄膜から生じる回折X線強度をナノ秒時間と逆格子位置との双方の関数として記録した。回折強度のピーク角度位置を解析し電場に、つまり逆圧電効果によって、誘起された10^<-4>の格子歪を検出できた。同時に同じ上部電極を用いユニポーラ分極Pを測定した。
印加電圧は高さ10,7.5,5,2.5,0,-2.5V、幅200nsを用いた。電場印加された試料薄膜の格子歪を電場の関数としてプロットした。その格子歪は電場に対して線形に増加した。その勾配はd_<33>圧電定数を示しており、28pm/Vの値を得た。格子歪を電気分極の2乗(P^2-Pr^2)関数としてプロットした。その勾配から電歪定数1.4x10^<-2>m^4/C^2を得ることができた。この電歪定数は電気エネルギーを機械エネルギーに変換する効率を表している。得られた値は知られている最大の値であるバルクのチタン酸鉛の値が8.9x10^<-2>m^4/C^2と比肩できるので、効率よくそのエネルギー変換できる材料としてBiFeO_3薄膜は有望であることが分かった。

  • 研究成果

    (12件)

すべて 2010 2009

すべて 雑誌論文 (6件) (うち査読あり 3件) 学会発表 (6件)

  • [雑誌論文] X線回折法を用いたハイブリッド型多孔性金属錯体の膜構造評価2009

    • 著者名/発表者名
      古川修平、坂田修身
    • 雑誌名

      日本放射光学会誌 22

      ページ: 249-255

  • [雑誌論文] 高輝度放射光X線回折法を用いたナノ構造解析の最近の話題2009

    • 著者名/発表者名
      坂田修身
    • 雑誌名

      ナノ学会会報 7

      ページ: 79-85

  • [雑誌論文] X-ray optics with small vertical divergence and horizontal focusing for an x-ray standing-wave measurement2009

    • 著者名/発表者名
      O.Sakata, T.Kudo, H.Yamanaka, Y.Imai
    • 雑誌名

      Transaction of the Materials Research Society of Japan 34

      ページ: 601-604

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Piezoelectric properties of{100}-oriented epitaxial BiCoO3-BiFeO3 films measured using synchrotron x-ray diffraction2009

    • 著者名/発表者名
      S.Yasui, O.Sakata, M.Nakajima, S.Utsugi, K.Yazawa, T.Yamada, H.Funakubo
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 48

      ページ: 09KDO6-1-4

    • 査読あり
  • [雑誌論文] In-situ observation of a Au(111)electrode surface using the x-ray reciprocal-lattice space imaging method2009

    • 著者名/発表者名
      O.Sakata, M.Nakamura
    • 雑誌名

      Appl.Surf.Sci. 256

      ページ: 1144-1147

    • 査読あり
  • [雑誌論文]2009

    • 著者名/発表者名
      坂田修身(分担)
    • 雑誌名

      光科学研究の最前線2(強光子場科学研究懇談会)

      ページ: 85-85

  • [学会発表] 招待講演:高輝度放射光X線回折による固液界面の研究の現状2010

    • 著者名/発表者名
      坂田修身
    • 学会等名
      春季第57回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東海大学(神奈川県)
    • 年月日
      2010-03-18
  • [学会発表] 口頭発表:電場印加下でのその場X線回折用温度制御試料チャンバ2010

    • 著者名/発表者名
      坂田修身、山田智明、安井伸太郎、中嶋誠二、清水勝、舟窪浩
    • 学会等名
      第23回日本放射光学会年会
    • 発表場所
      イーグレひめじ(兵庫県)
    • 年月日
      2010-01-08
  • [学会発表] 口頭発表:強誘電体薄膜の電歪決定法:ナノ秒オーダーの時分割シンクロトロン回折と電気分極のその場測定2009

    • 著者名/発表者名
      坂田修身、安井伸太郎、山田智明、舟窪浩
    • 学会等名
      日本結晶学会年会
    • 発表場所
      関西学院大学上ヶ原キャンパス(兵庫県)
    • 年月日
      2009-12-05
  • [学会発表] 口頭発表:In-situ lattice-strain analysis of a ferroelectric thin film under an applied pulse electric field2009

    • 著者名/発表者名
      O.Sakata, S.Yasui, T.Yamada, M.Yabashi, S.Kimura, H.Funakubo
    • 学会等名
      The 10th International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation SRI09
    • 発表場所
      Melbourne, Australia(the Melbourne Convention and Exhibition Centre)
    • 年月日
      2009-09-30
  • [学会発表] 招待講演:Recent structural studies of surfaces, interfaces, and thin films at BL13XU2009

    • 著者名/発表者名
      O.Sakata
    • 学会等名
      Workshop on "The Application of x-ray scattering on epitaxial growth and nanostructures"
    • 発表場所
      Hsinchu, Taiwan,(National Synchrotron Radiation Research Center)
    • 年月日
      2009-09-22
  • [学会発表] 招待講演:BL13XUの最近の現状2009

    • 著者名/発表者名
      坂田修身
    • 学会等名
      埋もれた界面のX線・中性子解析に関するワークショップ2009
    • 発表場所
      つくば大学東京キャンパス(東京都)
    • 年月日
      2009-07-14

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公開日: 2011-06-16   更新日: 2016-04-21  

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