| 研究概要 |
本研究課題では、第8世代大型パネルプロセス対応の大面積プロセスプラズマ源を実現するために大規模ラインプラズマ生成技術の開発を目的とし、平成20年度は長さ2メータの一様性の高いマイクロ波ラインプラズマ生成装置の試作ならびに生成技術の確立を試みた。その成果とし、導波管幅61,5mmの条件で長さ2mのラインプラズマをチャンバー内に生成することに成功した。またチャンバー内に生成されたプラズマをプローブ法で測定し、プラズマ電子密度の3次元分布を調べた結果、長さ方向には2mにわたって5%以内のバラツキで一様性の高いプラズマが生成されていることを明にした。また、電子密度の値は最大5x10^<11>cm^<-3>の高密度であり、マイクロ波のカットオフ密度を充分に超えていることが明らかとなった。さらに、これらのプラズマを制御するために導波管端に取り付けたショートプランジャーによりマイクロ波位相の調整を行った結果、それによるプラズマ電子密度のプロファイルは定在波と同様な形を示すことが明らかとなり、ショートプランジャーの設置によりプラズマの長さ方向分布の制御が可能であることが判明し、プラズマ制御技術に関しても一部成果を得ることが出来た。一方、プラズマの断面内のプロファイルではスロット直下で電子密度が最大となるものの、両裾野で肩を持つ分布形状を示し、この特異な形状はラインプラズマ生成のメカニズムと関連すると考えられることから、次年度の研究課題として残った。本研究課題の継続的遂行により、G8、G10クラスのフラットパネルプロセス要素技術の提供が可能であり、さらに各種フィルムの大面積処理、大規模水処理紫外光源、耐バイオハザード対応処理装置などの開発にもつながることから、各種産業分野ヘインパクトの大きい技術の提供が出来るものと考える。
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