研究課題
基盤研究(C)
内径1mm以下のチューブやマイクロ流体チップの流路内に減圧~大気圧で生成したμプラズマ(μP)を用いた化学気相成長法でTiO_2やSiO_2薄膜を作製して、X線光電子分光分析、赤外吸収スペクトルおよび走査電子顕微鏡で膜の組成や表面形状を解明した。また、マイクロ流路に0.4T以上の強磁場を印加してHe、Ar磁化μPを生成し、電子温度の制御を試みた。さらに、パルスコロナμPを用いて市販のプラスチック製チップの流路内壁親水化処理を実現した。
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