研究課題
基盤研究(C)
有機半導体薄膜を用いた電子デバイスの性能向上を目的として、有機分子系のグラフォエピタキシー現象に関する検討を行った。電子線リソグラフィー技術で基板表面に周期的溝をパターニングし、その基板上に分子線蒸着法によって薄膜成長することで、有機半導体がグラフォエピタキシャル成長(面内配向成長)することを実証した。更に、基板表面の化学的な修飾によって面内方位が変化することを見出し、有機分子系特有のメカニズムに関する知見も得ることができた。
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