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次世代のコンピュータに用いられるLSI用の絶縁膜や、太陽電池に用いられる透明導電性膜など、酸化物エレクトロニクス材料‐電極金属界面はデバイスの性能を決定付ける重要な要因である。これらの酸化物は酸素Oと構成金属元素Aから成っており、電極金属Bと界面で結合するに当たり、A-O-BとO-A-Bの異なる結合が可能である。本研究では、界面たった一原子層の厚みで、どちらの結合ができるかによってデバイスの性能が決定的に違うことを明らかにし、様々な酸化物と金属について、界面にどちらの結合ができるかを予測する方法を見出した。
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