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2010 年度 研究成果報告書

デバイス動作条件時AlGaN/GaN 2DEGの電子線ホログラフィーその場観察

研究課題

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研究課題/領域番号 20560028
研究種目

基盤研究(C)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 薄膜・表面界面物性
研究機関独立行政法人物質・材料研究機構

研究代表者

竹口 雅樹  独立行政法人物質・材料研究機構, ナノ計測センター, 主幹研究員 (30354327)

研究期間 (年度) 2008 – 2010
キーワード電子線ホログラフィー / 窒化物半導体 / その場観察
研究概要

3端子電圧導入機構を備えた試料ホルダーを用いてサファイアC面基板の上に成長させたAlGaN/GaNにPt探針を接触させ、バイアス電圧を印加した時のAlGaN/GaNにおけるポテンシャル変化を電子線ホログラフィーによって観察した。バイアス印加などの実際にデバイスを動作させる様々な条件をTEM内に再現し、その時のポテンシャルの変化を電子線ホログラフィーによって研究することができることが実証された。

  • 研究成果

    (10件)

すべて 2010 2009 2008

すべて 雑誌論文 (7件) (うち査読あり 6件) 学会発表 (3件)

  • [雑誌論文] Phase Separation Resulted from Mg-doping in p-InGaN film grown on GaN/sapphire template2010

    • 著者名/発表者名
      L.Sang, M.Takeguchi, W.Lee, T.Sekiguchi, L.Lozach, M.Sumiya
    • 雑誌名

      Applied Physics Express 3巻

      ページ: 111004(1)-111004(4)

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Fabrication and hard X-ray photoemission analysis of photocathodes with sharp solar-blind sensitivity using AlGaN films grown on Si substrates2010

    • 著者名/発表者名
      M.Sumiya, Y.Kamo, N.Ohashi, M.Takeguchi, Y.-U.Heo, H.Yoshikawa, S.Ueda, K.Kobayashi, T.Nihashi, M.Hagino, T.Nakano, S.Fuke
    • 雑誌名

      Applied Surface Science 256巻

      ページ: 4442-4446

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Periodic supply of indium as surfactant for N-polar InN growth by plasma-assisted molecular-beam epitaxy2009

    • 著者名/発表者名
      Y.Yao, T.Sekiguchi, T.Ohgaki, Y.Adachi, N.Ohashi, H.Okuno, M.Takeguchi
    • 雑誌名

      Applied Physics Letter 95巻

      ページ: 041913(1)-041913(3)

    • 査読あり
  • [雑誌論文] 先端透過型電子顕微鏡法を用いたIII属窒化物半導体ヘテロ界面評価2008

    • 著者名/発表者名
      竹口雅樹
    • 雑誌名

      表面技術 59巻

      ページ: 783-788

  • [雑誌論文] Sample Preparation of GaN- Based Materials on a Sapphire Substrate for STEM Analysis2008

    • 著者名/発表者名
      H.Okuno, M.Takeguchi, K.Mitsuishi, X.Guo, Y.Irokawa, Y.Sakuma, K.Furuya
    • 雑誌名

      Journal of Electron Microscopy 57巻

      ページ: 1-5

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Local characterizations of quaternary AlInGaN/GaN hetero- structures using TEM and HAADF-STEM2008

    • 著者名/発表者名
      H.Okuno, M.Takeguchi, K.Mitsuishi, X.Guo, Y.Irokawa, Y.Sakuma, K.Furuya
    • 雑誌名

      Surface Interface Analysis 40巻

      ページ: 1660-1663

    • 査読あり
  • [雑誌論文] HAADF-STEM and electron holography observations of AlInGaN/GaN hetero-structures2008

    • 著者名/発表者名
      M.Takeguchi, H.Okuno, K.Mitsuishi, Y.Irokawa, Y.Sakuma, K.Furuya
    • 雑誌名

      AMTC Letters 1巻

      ページ: 66-67

    • 査読あり
  • [学会発表] Band Gap States in AlGaN/GaN Hetero-Interface Probed by Deep-Level Optical Spectroscopy2009

    • 著者名/発表者名
      Y.Nakano, K.Nakamura, Y.Irokawa, M.Takeguchi
    • 学会等名
      8th Topical Workshop on Heterostructure Microelectronics
    • 発表場所
      Nagano, Japan
    • 年月日
      20090825-20090828
  • [学会発表] Electron Holography Observation of AlInGaN/GaN Hetero interfaces2008

    • 著者名/発表者名
      M.Takeguchi, H.Okuno, Y.Irokawa, Y.Sakuma, K.Furuya
    • 学会等名
      The 9th Asia-Pacific Microscopy Conference (APMC9)
    • 発表場所
      Jeju, Korea
    • 年月日
      20081102-20081107
  • [学会発表] Characterization of AlInGaN/GaN heterointerface by HAADF-STEM and electron holography2008

    • 著者名/発表者名
      M.Takeguchi, H.Okuno, Y.Irokawa, Y.Sakuma, K.Furuya
    • 学会等名
      Microscopy & Microanalysis 2008 Meeting
    • 発表場所
      Albuquerque, NM, USA
    • 年月日
      20080803-20080807

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公開日: 2012-01-26   更新日: 2016-04-21  

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